[發(fā)明專利]一種集成電路設(shè)備上用的承載固定裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310461410.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-10-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104516209A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-04-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 阮冬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京連和連知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光輝 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 集成電路 設(shè)備 承載 固定 裝置 | ||
1.一種集成電路設(shè)備上用的承載固定裝置,包括承載臺(tái)和承載對(duì)象,其特征在于,在所述承載臺(tái)之上,在所述承載臺(tái)與承載對(duì)象之間設(shè)有至少一個(gè)吸附結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載固定裝置,其特征在于,所述承載臺(tái)是掩模臺(tái)、硅片臺(tái)、芯片臺(tái)、晶圓臺(tái)或者基底臺(tái)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載固定裝置,其特征在于,所述承載臺(tái)是吸附片叉。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載固定裝置,其特征在于,所述承載對(duì)象是掩模、硅片、芯片、LCD版、LED版、玻璃版或者石英版。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載固定裝置,其特征在于,所述承載對(duì)象是翹曲片。
6.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載固定裝置,其特征在于,所述承載臺(tái)包括吸附片叉,所述吸附片叉包括氣道密封片,形成真空氣道;所述吸附結(jié)構(gòu)包括剛性支撐件和彈性墊圈;所述剛性支撐件與所述吸附片叉通過(guò)所述真空氣道相通;所述彈性墊圈形成一個(gè)圓周腔體,包圍所述剛性支撐件。
7.?根據(jù)權(quán)利要求6所述的承載固定裝置,其特征在于:所述彈性墊圈比所述剛性支撐件高。
8.?根據(jù)權(quán)利要求6所述的承載固定裝置,其特征在于:所述彈性墊圈與所述剛性支撐件高度的差值需大于所述承載對(duì)象在彈性墊圈直徑范圍內(nèi)所述承載對(duì)象的最大局部翹曲量。
9.?根據(jù)權(quán)利要求6所述的承載固定裝置,其特征在于:所述彈性墊圈為海綿類墊圈或者薄型橡膠吸盤。
10.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載固定裝置,其特征在于:所述吸附機(jī)構(gòu)數(shù)量為二個(gè)至二十個(gè)之任一自然數(shù)。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
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