[發(fā)明專利]一種印制電路板盲孔和精細(xì)線路的加工方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310460513.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103491728A | 公開(公告)日: | 2014-01-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何為;馮立;陳苑明;王守緒;陶志華;何杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H05K3/42 | 分類號(hào): | H05K3/42;H05K3/06;H05K3/18 |
| 代理公司: | 成都宏順專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51227 | 代理人: | 李順德;王睿 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 印制 電路板 精細(xì) 線路 加工 方法 | ||
1.一種印制電路板盲孔和精細(xì)線路的加工方法,其特征在于包括以下步驟:
A、制作單面覆銅板,所述單面覆銅板包括介質(zhì)層(110)以及覆蓋在介質(zhì)層(110)下表面的銅箔層(210);
B、在介質(zhì)層(110)的上表面通過(guò)燒蝕形成盲孔凹槽與精細(xì)線路凹槽(113);
C、對(duì)單面覆銅板的上表面進(jìn)行鍍銅處理,使介質(zhì)層(110)的上表面、盲孔凹槽的內(nèi)表面以及精細(xì)線路凹槽(113)的內(nèi)表面形成銅種子層(114);
D、在經(jīng)過(guò)步驟C處理后的單面覆銅板表面貼感光干膜(115),然后進(jìn)行曝光處理,露出盲孔凹槽與精細(xì)線路凹槽(113);
E、對(duì)經(jīng)過(guò)步驟D處理后的單面覆銅板進(jìn)行電鍍填銅處理,將盲孔凹槽與精細(xì)線路凹槽(113)填充滿;
F、對(duì)經(jīng)過(guò)步驟E處理后的單面覆銅板進(jìn)行去膜處理,除去單面覆銅板表面殘留的感光干膜(115),然后進(jìn)行快速蝕刻,去除介質(zhì)層(110)上表面的銅種子層(114),完成單層電路板的制作。
2.如權(quán)利要求1所述的印制電路板盲孔和精細(xì)線路的加工方法,其特征在于:在步驟A中,所述介質(zhì)層(110)為玻璃纖維增強(qiáng)環(huán)氧樹脂介質(zhì)層,并且玻璃纖維增強(qiáng)環(huán)氧樹脂介質(zhì)層的厚度為0.15mm~0.17mm。
3.如權(quán)利要求2所述的印制電路板盲孔和精細(xì)線路的加工方法,其特征在于:在步驟B中,采用CO2激光器在介質(zhì)層(110)的上表面燒蝕形成盲孔凹槽與精細(xì)線路凹槽(113)。
4.如權(quán)利要求3所述的印制電路板盲孔和精細(xì)線路的加工方法,其特征在于:在步驟B中,所述精細(xì)線路凹槽(113)的燒蝕深度為40μm~50μm,所述盲孔凹槽由盲孔(112)以及位于盲孔(112)上方的焊盤(111)構(gòu)成,所述盲孔(112)的底部延伸至銅箔層(210),且焊盤(111)的孔徑是盲孔(112)孔徑的2~3倍。
5.如權(quán)利要求4所述的印制電路板盲孔和精細(xì)線路的加工方法,其特征在于:在步驟C中,在對(duì)單面覆銅板的上表面進(jìn)行鍍銅處理之前先對(duì)盲孔凹槽與精細(xì)線路凹槽(113)進(jìn)行清洗處理。
6.如權(quán)利要求5所述的印制電路板盲孔和精細(xì)線路的加工方法,其特征在于:在對(duì)盲孔凹槽與精細(xì)線路凹槽(113)進(jìn)行清洗處理時(shí)采用等離子清洗處理或者高錳酸鉀清洗處理。
7.如權(quán)利要求6所述的印制電路板盲孔和精細(xì)線路的加工方法,其特征在于:在步驟C中,首先采用化學(xué)鍍銅處理或者濺射方法在單面覆銅板的上表面形成薄銅層,然后使用快速電鍍銅方法加厚薄銅層,從而在介質(zhì)層(110)的上表面、盲孔凹槽的內(nèi)表面以及精細(xì)線路凹槽(113)的內(nèi)表面形成所述的銅種子層(114),并且銅種子層(114)厚度為1~3μm。
8.如權(quán)利要求7所述的印制電路板盲孔和精細(xì)線路的加工方法,其特征在于:在步驟D中,所述曝光處理采用激光直接成像系統(tǒng)完成。
9.如權(quán)利要求8所述的印制電路板盲孔和精細(xì)線路的加工方法,其特征在于:在步驟E中,所述電鍍填孔處理所使用的鍍液為低酸高銅體系,其中H2SO4的質(zhì)量濃度為40g/L~60g/L,CuSO4·5H2O的質(zhì)量濃度為180g/L~210g/L;并且在進(jìn)行電鍍填孔處理的過(guò)程中,電鍍時(shí)間為70~80分鐘,電流密度為1.0~1.2A/dm2。
10.如權(quán)利要求9所述的印制電路板盲孔和精細(xì)線路的加工方法,其特征在于:在步驟F中,快速蝕刻所使用的蝕刻液為H2SO4-H2O2蝕刻液。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于電子科技大學(xué),未經(jīng)電子科技大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310460513.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類





