[發明專利]一種磁控濺射改性處理人工關節的方法無效
| 申請號: | 201310460063.0 | 申請日: | 2013-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN104513964A | 公開(公告)日: | 2015-04-15 |
| 發明(設計)人: | 袁萍 | 申請(專利權)人: | 無錫慧明電子科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/08;A61L33/02;A61L27/30 |
| 代理公司: | 無 | 代理人: | 無 |
| 地址: | 214000 江蘇省無錫市錫山區錫山*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 磁控濺射 改性 處理 人工關節 方法 | ||
1.一種經過表面改性處理的人工關節,其特征在于,該人工關節的表面均勾涂覆有經輕稀土元素摻雜的二氧化鈦復合膜,該二氧化鈦復合膜的厚度為20-600納米,優選為60-300納米,稀土元素在二氧化鈦復合膜中的摩爾含量為0.1%-20%優選為0.2%~10%。
2.權利要求1所述的人工關節,其特征在于,該人工關節的基體為鈦合金或不銹鋼。
3.權利要求1所述的人工關節,其特征在于,所述稀土元素在所述二氧化鈦復合膜中的摩爾含量為0.5%~5%。
4.權利要求1-3之一所述的人工關節,其特征在于,所述的經輕稀土元素摻雜的二氧化鈦復合膜是通過磁控濺射技術沉積所述人工關節基體的表面上。
5.權利要求4所述的人工關節,其特征在于,所述的濺射沉積采用的靶材為輕稀土元素摻雜的二氧化鈦納米粉體。
6.權利要求4所述的人工關節,其特征在于,所述的濺射沉積是在所述復合靶上施加射頻磁控濺射,其中,射頻功率200~500W,射頻電壓800~1000伏,工作氣壓10-2~101Pa。
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