[發明專利]一種管內化學氣相沉積制備薄膜的方法及裝置

有效

• 申請號: 201310459850.3
• 申請日: 2013-09-29
• 公開（公告）號: CN103484829A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發明（設計）人: 趙松;張永輝;肖志超;侯衛權;蘇君明
• 申請（專利權）人: 西安超碼科技有限公司
• 主分類號: C23C16/04
• 分類號: C23C16/04;C23C16/44;C23C16/54
• 代理公司: 西安創知專利事務所 61213
• 代理人: 譚文琰

1.一種管內化學氣相沉積制備薄膜的裝置，其特征在于，包括反應室（1），所述反應室（1）上開有供管狀工件（3）穿過的進料口（1-1）和出料口（1-2），所述進料口（1-1）和出料口（1-2）分別布設在反應室（1）兩側，所述反應室（1）上且位于出料口（1-2）上方設置有保護氣入口（6），所述反應室（1）上且位于進料口（1-1）下方設置有保護氣出口（7），所述反應室（1）內部設置有用于對位于反應室（1）內的管狀工件（3）進行加熱的加熱單元（2）。

2.根據權利要求1所述的一種管內化學氣相沉積制備薄膜的裝置，其特征在于，還包括用于帶動管狀工件（3）水平運行的傳送器（8）。

3.根據權利要求1所述的一種管內化學氣相沉積制備薄膜的裝置，其特征在于，所述管狀工件（3）穿出出料口（1-2）的一端設置有用于對管狀工件（3）內部抽真空的真空泵（5），管狀工件（3）的另一端設置有用于測量管狀工件（3）內壓力的壓力表（4）。

4.根據權利要求1所述的一種管內化學氣相沉積制備薄膜的裝置，其特征在于，所述反應室（1）外部且位于出料口（1-2）處設置有用于對管狀工件（3）進行冷卻的冷卻裝置（9）。

5.根據權利要求4所述的一種管內化學氣相沉積制備薄膜的裝置，其特征在于，所述冷卻裝置（9）為纏繞于管狀工件（3）外壁的冷卻盤管。

6.根據權利要求1所述的一種管內化學氣相沉積制備薄膜的裝置，其特征在于，所述加熱單元（2）為設置于反應室（1）內壁的加熱棒。

7.根據權利要求1所述的一種管內化學氣相沉積制備薄膜的裝置，其特征在于，所述加熱單元（2）包括與位于反應室（1）內的管狀工件（3）兩端接觸連接且對位于反應室（1）內的管狀工件（3）通電加熱的電極對（2-1）和與電極對（2-1）相連通的電源（2-2）。

8.根據權利要求1所述的一種管內化學氣相沉積制備薄膜的裝置，其特征在于，所述管狀工件（3）的數量為多個。

9.一種利用如權利要求1所述裝置進行管內化學氣相沉積制備薄膜的方法，其特征在于，該方法為：將管狀工件（3）穿過反應室（1），通過保護氣入口（6）向反應室（1）內通入保護氣體；然后開啟加熱單元（2）對位于反應室（1）內的管狀工件（3）進行加熱，待溫度達到沉積溫度，向管狀工件（3）內通入反應氣體進行化學氣相沉積，冷卻后得到附著于管狀工件（3）內壁的化學氣相沉積薄膜。