[發(fā)明專利]一種外延用真空吸筆無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310457396.8 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103500726A | 公開(公告)日: | 2014-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李超亞 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 徐州錫賈工業(yè)園投資發(fā)展有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/683 | 分類號(hào): | H01L21/683 |
| 代理公司: | 徐州支點(diǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32244 | 代理人: | 劉新合 |
| 地址: | 221000 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 外延 真空 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種真空吸筆,具體是一種外延工序用真空吸筆,屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體制造的外延工序中,操作工必須使用真空吸筆抓取晶圓進(jìn)行轉(zhuǎn)移或檢測(cè)。此時(shí)的晶圓分正面和背面,操作指導(dǎo)書要求操作過程只能觸碰晶圓的背面。當(dāng)前使用的真空吸筆的形狀是鏟狀筆頭加上握柄構(gòu)成,與真空泵連接。對(duì)于已經(jīng)外延好圖形的晶圓進(jìn)行吸取時(shí),下筆過程中,有可能誤操作,刮傷晶圓正表面。怎樣通過簡(jiǎn)單的機(jī)械部件,引導(dǎo)操作工下筆過程中,避免觸碰晶圓正表面,成為一個(gè)急需解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,本發(fā)明提供一種外延工序用真空吸筆,能夠有效降低人工操作過程中刮傷晶圓正表面的概率。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:本外延工序用真空吸筆,包括真空泵、中空手柄,還包括叉狀引導(dǎo)頭和壓簧開關(guān),叉狀引導(dǎo)頭通過壓簧開關(guān)與中空手柄連接。叉狀引導(dǎo)頭的U型空間大于晶圓的厚度。優(yōu)選方案還包括中空手柄與叉狀引導(dǎo)頭之間安裝鉸鏈。
通過叉狀引導(dǎo)頭和壓簧開關(guān)限制操作工的下筆習(xí)慣,在下筆吸取晶圓時(shí),不會(huì)因?yàn)槭值亩秳?dòng)刮傷相鄰晶圓的正表面。叉狀引導(dǎo)頭通過鉸鏈圍繞中空手柄的活動(dòng),增加了操作工下筆的角度,提高了工作效率。
附圖說明
圖1為本發(fā)明的真空吸筆示意圖。
圖中:1、真空泵,2、中空手柄,?3、鉸鏈,?4、壓簧開關(guān),?5、叉狀引導(dǎo)頭。
具體實(shí)施方式
如圖1所示,叉狀引導(dǎo)頭5通過壓簧開關(guān)4和鉸鏈3連接到中空手柄2,中空手柄2與真空泵連接。叉狀引導(dǎo)頭1在鉸鏈3的控制范圍內(nèi)可以圍繞中空手柄2運(yùn)動(dòng),壓簧開關(guān)4在壓縮到一定行程后打開真空吸氣通道。
使用時(shí),只需要對(duì)準(zhǔn)晶圓的側(cè)面向下壓叉狀引導(dǎo)頭5,經(jīng)過一定壓縮行程后,抽真空啟動(dòng),晶圓被吸附在叉狀引導(dǎo)頭5上,完成抓取晶圓的動(dòng)作。操作簡(jiǎn)單,降低刮傷晶圓正面的風(fēng)險(xiǎn),提升工作效率。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于徐州錫賈工業(yè)園投資發(fā)展有限公司,未經(jīng)徐州錫賈工業(yè)園投資發(fā)展有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310457396.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





