[發明專利]X射線管

無效

• 申請號: 201310455915.7
• 申請日: 2013-09-29
• 公開（公告）號: CN103715047A
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發明（設計）人: 松本晃;出口清之;丸島吉久;小暮雄一;中村和仁;岡田和幸;藤田澄;仲村龍彌
• 申請（專利權）人: 雙葉電子工業株式會社;濱松赫德尼古斯股份有限公司
• 主分類號: H01J35/04
• 分類號: H01J35/04;H01J35/08;H01J35/14
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;王錦陽

技術領域

本發明是涉及一種在設為高真空狀態的密封件（package）的內部，從電子源釋放電子使的撞擊X射線靶（target），再將從X射線靶釋放的X射線，從密封件的X射線穿透窗放射至外部的X射線管，尤其還涉及一種防止因為X射線靶所反射的電子在密封件散射所引起動作特性不安定化的X射線管。

背景技術

在下述專利文獻1中，已揭示一種對空氣照射X射線，用以產生離子氣體（ion?gas）的X射線產生裝置。使用在該X射線產生裝置的X射線管，是以圓柱狀密封件（真空管（bulb））作為本體，而在密封件內，從熱絲（filament）射出的電子是經由聚焦而被聚集，撞擊X射線靶而產生X射線，而該X射線是穿透輸出窗（X射線穿透窗）而射出至密封件的外部。

圖4與所述專利文獻1的X射線管相同，是以玻璃制圓柱狀密封件100為本體的所謂圓型管形態的X射線管的剖面圖。該圓柱狀密封件100，位于其一端面的圓形開口是被由鈹（beryllium）所構成的膜的X射線穿透窗101所封閉，而內部則保持為高真空狀態。在密封件100的內部中，于X射線穿透窗101的內面設有X射線靶102。此外，在密封件100的另一端面的側，則設有屬于電子源的陰極103與控制電極104。而且，從陰極103射出的電子是在控制電極104被加速，并經聚集而撞擊X射線靶102，而得以將X射線從X射線穿透窗101放射至密封件100的外部。另外，在圖4中，是以符號X示意性顯示從X射線穿透窗101放射至密封件100的外部的X射線，并且以符號P來顯示X射線穿透窗101中的X射線的放射的中心。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：日本特開2005-116534號公報

發明內容

[發明所欲解決的課題]

然而，在圖4所示現有技術的X射線管中，來自陰極103的電子被縮小成射束（beam）狀，是以撞擊X射線靶102的位置為中心而使X射線擴展成輻射狀的點狀的X射線照射（圖4中以符號P所示的點即為中心），而X射線則是從X射線穿透窗101射出后擴展成圓錐狀（在圖4中以符號X顯示），因此會有相對于照射對象物的大小，有效照射范圍（area）狹小的問題。因此，若要使用照射范圍狹小的圓型管X射線管使X射線照射至寬廣的范圍，就要使用多個X射線管，并將其予以并排使用，故在設備成本或在維修方面有極大負擔。

此外，若要使X射線照射至寬廣范圍，雖也可考慮遠離對象物來照射X射線，但若要照射所希望的X射線至照射對象物，就需加強X射線的照射強度。如此一來，甚至將X射線照射至不需要的部位，而產生X射線泄漏的問題。

因此，本案發明的發明人等，為了解決此種現有技術的圓型管形態的X射線的問題，發明了圖5及圖6所示的平型管形態的X射線管。該X射線管是以箱形密封件55作為本體，該箱形密封件55是由將1片玻璃制背面基板61與4片側面板62組裝成箱型而成的容器部51、及在該容器部51的開放側周緣部由X射線不穿透性的金屬所構成的基板53所構成。在成為該密封件55的X射線放射側的基板53中，是形成有細縫（slit）狀的開口部52（例如寬度2mm左右），而在該開口部52，則自基板53的外側安裝有由鈦（titanium）箔所構成的X射線穿透窗54。

密封件55的內部是保持為高真空狀態。在密封件55內，是于顯現在基板53的開口部52的X射線穿透窗54中設有鎢（tungsten）等的X射線靶56。此外，在密封件55的內部，是于與X射線穿透窗54相反側的內面的背面基板61的內面設有背面電極57，而在該背面電極57下方則依序配設有熱絲狀的陰極58、從陰極58吸引電子的第1控制電極59、及將第1控制電極59所吸引的電子進行加速的第2控制電極60。

依據該X射線管，從陰極58被第1控制電極59所吸引的電子是通過第2控制電極60加速，且撞擊X射線靶56而產生X射線。而且，經由電子撞擊而從X射線靶56所產生的X射線，是穿透X射線穿透窗54而放射至密封件55的外部。