[發(fā)明專利]一種引線框架的制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310455710.9 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103531486A | 公開(公告)日: | 2014-01-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黎超豐;鄧道斌;鄭康定;李昌文;林海見 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 寧波康強(qiáng)電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/48 | 分類號(hào): | H01L21/48 |
| 代理公司: | 寧波市鄞州甬致專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33228 | 代理人: | 李迎春 |
| 地址: | 315105 浙江省寧*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 引線 框架 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及引線框架技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種引線框架的制作方法。
背景技術(shù)
引線框架作為集成電路的芯片載體,是制作生產(chǎn)集成電路半導(dǎo)體元件的基本部件。引線框架一般包括多個(gè)呈矩陣排列的功能單元,所述功能單元包括中間的裝片區(qū)(用于安裝芯片)和裝片區(qū)周圍的打線區(qū)(打線區(qū)由多個(gè)小焊點(diǎn)組成)。這種引線框架一旦制成,裝片區(qū)與打線區(qū)的尺寸便是固定的,即換過來說,制備不同尺寸(包括裝片區(qū)、打線區(qū))的引線框架,就需要不同尺寸的模具。所以該引線框架制備過程中,為了制備不同尺寸的引線框架,需要不同尺寸的模具,這使得引線框架的制備成本高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種引線框架的制作方法,該方法可以用于制作不同尺寸的引線框架,且成本低、適用范圍廣。
本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為:
一種引線框架的制作方法,以矩形的銅合金片為基材,其特征在于包括以下步驟:
(1)半蝕刻:對(duì)銅合金片基材正面進(jìn)行半蝕刻,使在銅合金片基材正面形成呈矩陣排列的圓形凸臺(tái),圓形凸臺(tái)的截面圓直徑為0.25-0.35mm、相鄰圓形凸臺(tái)同一水平面的截面圓的圓心距為0.5mm。
(2)電鍍:根據(jù)預(yù)制作的集成電路元件中芯片的大小及需要焊引線的數(shù)量選擇合適位置的圓形凸臺(tái)進(jìn)行表面電鍍,形成電鍍區(qū),電鍍金屬為銀或鎳鈀金。舉個(gè)例子,在圓形凸臺(tái)的截面圓直徑為0.25mm、相鄰圓形凸臺(tái)同一水平面的截面圓的圓心距為0.5mm的情況下:若需安裝的芯片為1cm×1cm的方形片、需要焊引線的數(shù)量為88根,則電鍍選擇的圓形凸臺(tái)為一個(gè)23×23方形矩陣圓形凸臺(tái)的最外面一圈;若需安裝的芯片為1cm×1cm的方形片、需要焊引線的數(shù)量為180根,則電鍍選擇的圓形凸臺(tái)為一個(gè)24×24方形矩陣圓形凸臺(tái)的最外面兩圈;若需安裝的芯片為0.5cm×0.5cm的方形片、需要焊引線的數(shù)量為48根,則電鍍選擇的圓形凸臺(tái)為一個(gè)13×13方形矩陣圓形凸臺(tái)的最外面一圈。這里面電鍍區(qū)作為焊引線之用、即相當(dāng)于打線區(qū),電鍍區(qū)內(nèi)部的區(qū)域作為裝芯片之用、即相當(dāng)于裝片區(qū),而電鍍區(qū)和內(nèi)部的裝片區(qū)合起來就組成了引線框架的功能單元。
(3)塑封:對(duì)步驟(1)中半蝕刻形成的蝕刻區(qū)進(jìn)行塑封,塑封的材料為環(huán)氧樹脂。
(4)二次背面蝕刻:對(duì)銅合金片基材上塑封區(qū)下面的區(qū)域繼續(xù)蝕刻并蝕穿,使銅合金片基材形成若干個(gè)呈矩陣排列的圓柱形臺(tái)。
(5)絕緣:對(duì)步驟(4)中蝕刻形成的蝕刻區(qū)進(jìn)行絕緣,絕緣的材料為綠油。
(6)切割成型:根據(jù)使用需要進(jìn)行切割,形成包括一個(gè)或若干個(gè)呈矩陣排列的功能單元的引線框架。若使用僅需要一個(gè)功能單元就夠了,那么就切割形成一個(gè)功能單元的引線框架,若使用需要多個(gè)功能單元,那么就切割成相應(yīng)數(shù)量功能單元的引線框架。
本發(fā)明引線框架的制作方法在進(jìn)行蝕刻時(shí),僅僅是蝕刻形成呈矩陣排列的圓形凸臺(tái),不管預(yù)制作的集成電路元件需要的芯片尺寸是什么、焊引線的數(shù)量為多少,蝕刻步驟和使用的模具都一樣,而至于預(yù)制作的集成電路中裝片區(qū)和打線區(qū)的規(guī)格,只要通過電鍍時(shí)對(duì)電鍍位置進(jìn)行一個(gè)適合的選擇即可,所以本發(fā)明引線框架的制作方法步驟簡單、使用一個(gè)模具就可以實(shí)現(xiàn)制作不同尺寸的引線框架、制作成本低、適用范圍廣。
附圖說明
圖1所示的是本發(fā)明引線框架制作方法的工序示意圖。
其中:1、銅合金片;2、圓形凸臺(tái);3、電鍍區(qū);4、塑封區(qū);5、圓柱形臺(tái);6、絕緣區(qū)。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步具體描述,但不局限于此。
如圖1所示,本實(shí)施例引線框架的制作方法,該方法以矩形的銅合金片1為基材,具體包括以下步驟:
(1)半蝕刻:對(duì)銅合金片1基材正面進(jìn)行半蝕刻,使在銅合金片1基材正面形成呈矩陣排列的圓形凸臺(tái)2,圓形凸臺(tái)2的截面圓直徑為0.25-0.35mm、相鄰圓形凸臺(tái)12同一水平面的截面圓的圓心距為0.5mm,得到圖1(a)所示;
(2)電鍍:根據(jù)預(yù)制作的集成電路元件中芯片的大小及需要焊引線的數(shù)量選擇合適位置的圓形凸臺(tái)2進(jìn)行表面電鍍,形成電鍍區(qū)3,電鍍金屬為銀或鎳鈀金,當(dāng)為鎳鈀金時(shí)在基材表面依次電鍍鎳層0.5-2.0um、鈀層20-150nm、金層3-15nm,得到如圖1(b)所示;
(3)塑封:對(duì)步驟(1)中半蝕刻形成的蝕刻區(qū)進(jìn)行塑封,形成塑封區(qū)4,塑封的材料為環(huán)氧樹脂,得到如圖1(c)所示;
(4)二次背面蝕刻:對(duì)銅合金片1基材上塑封區(qū)4下面的區(qū)域繼續(xù)蝕刻并蝕穿,使銅合金片1被蝕刻成呈矩陣排列的圓柱形臺(tái)5,得到如圖1(d)所示;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





