[發明專利]紫外光固化抗指紋、抗靜電涂料組合物

有效

• 申請號: 201310454618.0
• 申請日: 2013-09-27
• 公開（公告）號: CN103555156A
• 公開（公告）日: 2014-02-05
• 發明（設計）人: 虞明東;王艷梅;朱衛彪
• 申請（專利權）人: 上海維凱化學品有限公司;上海乘鷹新材料有限公司
• 主分類號: C09D167/06
• 分類號: C09D167/06;C09D175/14;C09D163/10;C09D7/12;C09D5/24
• 代理公司: 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236
• 代理人: 牛山;陳少凌

技術領域

本發明屬于涂料領域，具體涉及一種紫外光固化抗指紋、抗靜電涂料組合物。

背景技術

紫外光固化涂料(UV涂料)發展迅速，由于固化后的涂層具有優異的抗劃傷、高硬度、豐滿度好等優點，并且因其具有高效、節能、環保、經濟等優勢，在建筑、體育用品、電子通訊、包裝材料和汽車部件中得到廣泛的應用。由于亞克力(PMMA，俗稱有機玻璃)或者亞克力／聚碳酸酯(PMMA／PC)復合板材的高透光性和低密度，便于加工成型等優點，越來越多的使用在光學領域，例如相機鏡頭、觸摸屏幕、儀表盤保護罩等。目前使用的PMMA板材或PMMA／PC復合板材需要在其表面涂布一層加硬涂層，一方面提高其硬度和耐磨性等性能，另一方面減少其吸水變形等。

涂裝有常規加硬涂層的PMMA板材或PMMA／PC復合板材在裁切過程中，裁切處會產生飛屑，涂層沒有抗指紋和抗靜電性能，飛屑很容易沾粘在板材上，即使使用高壓氣體能使部分飛屑吹掉，但很難清理干凈；另外，在板材的安裝和使用過程中，由于相互摩擦等使其表面產生靜電，這些靜電作用會導致板材很容易沾粘灰塵，這嚴重影響其透光率和表面美觀，特別是在光學領域，造成其性能的急劇下降。

抗指紋、抗靜電涂料固化后，一方面由于抗指紋性使涂層不易沾粘臟污和飛屑或者沾粘的臟污和飛屑容易被除去，一方面由于抗靜電性消除了涂層表面的靜電，削弱涂層因為靜電吸附的飛屑以及灰塵，兩者能夠達到相互協同的作用，保證了PMMA板材的清潔度和透光率，減少清洗次數，延長其使用壽命。

PMMA板材或PMMA／PC復合板材的抗指紋涂料主要方法是降低涂層的表面張力，使污漬或者指紋等很難附著在涂層上，或者附著上后能夠很輕易的擦拭。降低涂層表面張力的最主要方法是使用含氟、硅的單體、樹脂或者助劑，但目前大部分的含氟、硅的單體、樹脂或助劑很少能夠發生UV固化交聯，這使涂層的抗污性能不能長時間保持。光學級的板材上使用的抗靜電涂料主要是添加低分子量導電助劑或者導電高分子，而目前市面上的導電高分子主要適合于水性體系，在溶劑型UV體系中的相容性較差，容易導致涂層發霧；添加低分子量抗靜電助劑存在助劑遷移導致涂層表面性能降低或破壞，特別是抗指紋性能的降低甚至消失。

申請號為CN201010533818的專利文獻提到一種含氟涂料，能夠在產品表面形成10～100nm的抗指紋涂層，但該涂料非UV光固化涂料；日本專利JP0716940也公開了一種耐污染涂料，但因需要兩次涂布而增加生產成本和降低生產效率；公開號CN101290365A提出了一種抗指紋、抗靜電保護膜，但其采用的抗靜電劑無法參加反應，故存在抗靜電助劑遷移問題；CN101137718提到一種能縮短干燥時間的抗靜電液，涂層透光率佳，但其為水溶性體系，在溶劑型UV體系中存在相容性差的難題；專利CN101327480采用了銻摻雜二氧化錫納米粉體作為抗靜電劑制備的抗靜電薄膜，但其透光率未能達到90％以上，且其不具抗指紋特性；專利CN102786875公開一種抗靜電、透光率超過90％的抗靜電硬化薄膜，但其不具抗指紋性和存在靜電劑遷移問題；申請號CN1552781中提到一種抗靜電UV涂料，其采用的丙烯酸酯類抗靜電助劑能夠參加反應，解決了助劑遷移的問題，但是該涂料不具有抗指紋性，達不到抗指紋和抗靜電性能的有效協同作用。

發明內容

本發明的目的在于克服上述現有技術中存在的不足，提供一種紫外光固化抗指紋、抗靜電涂料組合物。本發明采用可UV固化的抗指紋樹脂和可UV固化的抗靜電助劑，可直接在現有UV加硬涂料體系內使用，UV固化后，抗指紋和抗靜電性能達到很好的協同作用，涂層具有抗指紋、抗靜電的雙重效果，且不存在助劑遷移表面，抗指紋、抗靜電效果不受影響；真正解決了目前抗指紋涂料不具抗靜電性、抗靜電涂料不具抗指紋性，或者抗指紋、抗靜電涂料存在的助劑遷移問題。

本發明的目的是通過以下的技術方案來實現的：

本發明涉及一種紫外光固化抗指紋、抗靜電涂料組合物，所述涂料組合物包括如下重量份數的各組分：

氟改性丙烯酸酯低聚物????5～10份，

硅改性丙烯酸酯低聚物????10～20份，

高官能度丙烯酸酯低聚物??50～65份，

高官能度丙烯酸酯單體????10～20份，

兩官能度單體????????????5～10份，

光引發劑????????????????4～6份，

抗靜電助劑??????????????2～5份，

助劑????????????????????0.05～3份。