[發明專利]一種含有Bi2O3的銅基質化學鍍液及其制備方法和應用有效
| 申請號： | 201310454219.4 | 申請日： | 2013-09-27 |
| 公開（公告）號： | CN103484846A | 公開（公告）日： | 2014-01-01 |
| 發明（設計）人： | 蘇碧云 | 申請（專利權）人： | 西安石油大學 |
| 主分類號： | C23C22/06 | 分類號： | C23C22/06 |
| 代理公司： | 西安永生專利代理有限責任公司 61201 | 代理人： | 曹宇飛 |
| 地址： | 710065 *** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 含有 bi sub 基質 化學 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種含有Bi2O3的銅基質化學鍍液，其特征在于在1L的鍍液中含有以下配比的原料：
2.根據權利要求1所述的含有Bi2O3的銅基質化學鍍液，其特征在于在1L的鍍液中含有以下配比的原料：
3.根據權利要求2所述的含有Bi2O3的銅基質化學鍍液，其特征在于在1L的鍍液中含有以下配比的原料：
4.根據權利要求1或2或3所述的含有Bi2O3的銅基質化學鍍液，其特征在于在1L的水中還含有0.55～1.00g的H2C2O4、0.80～1.20g?Na2C2O4、0.15～0.30g的十二烷基磺酸鈉。
5.一種權利要求1所述的含有Bi2O3的銅基質化學鍍液的制備方法，其特征在于由以下步驟組成：
（1）按照每3.4g?Bi2O3中加入3mL去離子水，混勻后再加入70mL濃鹽酸的比例，量取Bi2O3與濃鹽酸，制得濃度為0.0466g/mL的Bi2O3的Bi2O3酸性水溶液；
（2）將十二烷基硫酸鈉和SeO2分別溶于50℃的去離子水中得到濃度為0.0087g/mL的十二烷基硫酸鈉水溶液和濃度為0.0120g/mL的SeO2水溶液，將所制得的十二烷基硫酸鈉水溶液和SeO2水溶液依次加入步驟（1）的Bi2O3酸性溶液中，攪拌混勻；
（3）向步驟（2）的混合溶液中依次加入對甲苯磺酸、丙三醇和H2O2，加水定容至1L，攪拌均勻，可得含有Bi2O3銅基質化學鍍液。
6.根據權利要求5所述的含有Bi2O3的銅基質化學鍍液的制備方法，其特征在于：所述步驟（2）將H2C2O4、十二烷基硫酸鈉和SeO2分別溶于50℃的去離子水中得到濃度為0.0400g/mL的H2C2O4溶液、濃度為0.0087g/mL的十二烷基硫酸鈉水溶液和濃度為0.0120g/mL的SeO2水溶液，將所制得的H2C2O4溶液、十二烷基硫酸鈉水溶液和SeO2水溶液依次加入步驟（1）的Bi2O3酸性溶液中，攪拌混勻。
7.根據權利要求5所述的含有Bi2O3的銅基質化學鍍液的制備方法，其特征在于：所述步驟（3）是：向步驟（2）的混合溶液中依次加入對甲苯磺酸、丙三醇和H2O2，攪拌均勻后加入濃度為0.0500g/mL的Na2C2O4溶液和濃度為0.0110g/mL的十二烷基磺酸鈉溶液，加水定容至1L，攪拌均勻，得含有Bi2O3銅基質化學鍍液。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C22-00 表面與反應液反應、覆層中留存表面材料反應產物的金屬材料表面化學處理，例如轉化層、金屬的鈍化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔體
C23C22-73 .以工藝為特征的
C23C22-78 .待鍍覆材料的預處理
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