[發明專利]一種黑色裝飾薄膜材料及其制備方法有效
| 申請號: | 201310451156.7 | 申請日: | 2013-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN103526170A | 公開(公告)日: | 2014-01-22 |
| 發明(設計)人: | 李偉;張笑 | 申請(專利權)人: | 上海理工大學;上海仟納真空鍍膜科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司: | 上海申匯專利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吳寶根 |
| 地址: | 200093 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 黑色 裝飾 薄膜 材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種黑色裝飾薄膜材料,其特征在于所述的黑色裝飾薄膜材料為通過磁控濺射法在基體的表面鍍有的一層黑色氮化錳薄膜,其厚度為200-300nm;
所述的基體為不銹鋼、硬質合金或石英。
2.如權利要求1所述的一種黑色裝飾薄膜材料的制備方法,其特征在于具有包括如下步驟:
(1)、基體的預處理
將經拋光處理后的基體送入超聲波清洗機,在分析純的無水乙醇和丙酮中利用15-30kHz超聲波進行清洗5-10min,然后烘干;
(2)、反濺射清洗基體;
將預處理后的基體裝進真空室,抽真空到5×10-3Pa后通入Ar氣,維持真空度在2-4Pa,對基體進行30min的離子轟擊,功率為80-100W;
(3)、采用磁控濺射法制備氮化錳薄膜
采用金屬錳作為陰極濺射材料,濺射方式為射頻反應濺射,濺射室中通入Ar氣的同時,通入高純度的N2,控制N2氣與Ar氣的氣流比為5-10sccm:40-60sccm,濺射氣壓為0.2-0.4Pa,濺射功率為80-100W,沉積的溫度為室溫-200℃,時間為15-30min,對基體進行磁控濺射制備氮化錳薄膜,濺射完成后取出基體,即得表面鍍有一層黑色氮化錳薄膜的基體。
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