[發(fā)明專(zhuān)利]一種用于冷卻片狀激光增益介質(zhì)的裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310449755.5 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103474865A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-12-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙環(huán) | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 北京無(wú)線電計(jì)量測(cè)試研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01S3/042 | 分類(lèi)號(hào): | H01S3/042 |
| 代理公司: | 北京正理專(zhuān)利代理有限公司 11257 | 代理人: | 張文祎 |
| 地址: | 100854 北*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 冷卻 片狀 激光 增益 介質(zhì) 裝置 | ||
1.一種用于冷卻片狀激光增益介質(zhì)的裝置,其特征在于:該裝置包括熱沉、TEC、真空室殼體、真空室底座和蓋板;所述真空室殼體為管狀,所述熱沉和TEC位于所述真空室殼體內(nèi)部,該真空室殼體一端與所述真空室底座密封連接,另一端與所述蓋板密封連接,所述TEC設(shè)置在真空室底座的側(cè)面上,所述熱沉設(shè)置在TEC的致冷面上,所述真空室殼體上設(shè)置有一用于抽真空的通氣孔和一用于連接TEC的電控轉(zhuǎn)接端子;所述真空室底座外側(cè)面上設(shè)有進(jìn)水孔和出水孔,該真空室底座內(nèi)部設(shè)有連通所述進(jìn)水孔和出水孔的水道。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于冷卻片狀激光增益介質(zhì)的裝置,其特征在于:該裝置還包括熱敏電阻和溫度控制器,所述熱敏電阻設(shè)置在所述熱沉上,所述溫度控制器通過(guò)電控轉(zhuǎn)接端子分別與所述熱敏電阻和TEC連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于冷卻片狀激光增益介質(zhì)的裝置,其特征在于:所述蓋板為透明材質(zhì)或者所述蓋板上設(shè)有一通光孔,該通光孔上設(shè)有光學(xué)鏡片。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于冷卻片狀激光增益介質(zhì)的裝置,其特征在于:所述熱沉、TEC和真空室底座各接觸表面間涂有導(dǎo)熱膏。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于冷卻片狀激光增益介質(zhì)的裝置,其特征在于:片狀激光增益介質(zhì)可以通過(guò)機(jī)械方式固定在所述熱沉上,也可以金屬銦為焊料焊接在熱沉上。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于北京無(wú)線電計(jì)量測(cè)試研究所,未經(jīng)北京無(wú)線電計(jì)量測(cè)試研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310449755.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01S 利用受激發(fā)射的器件
H01S3-00 激光器,即利用受激發(fā)射對(duì)紅外光、可見(jiàn)光或紫外線進(jìn)行產(chǎn)生、放大、調(diào)制、解調(diào)或變頻的器件
H01S3-02 .結(jié)構(gòu)零部件
H01S3-05 .光學(xué)諧振器的結(jié)構(gòu)或形狀;包括激活介質(zhì)的調(diào)節(jié);激活介質(zhì)的形狀
H01S3-09 .激勵(lì)的方法或裝置,例如泵激勵(lì)
H01S3-098 .模式鎖定;模式抑制
H01S3-10 .控制輻射的強(qiáng)度、頻率、相位、極化或方向,例如開(kāi)關(guān)、選通、調(diào)制或解調(diào)





