[發(fā)明專利]用來制造CdTe薄層太陽(yáng)能電池的背接觸層的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310446479.7 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104518044B | 公開(公告)日: | 2019-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 巴斯蒂安·希普欣;貝蒂娜·斯帕特;彭壽 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)建材國(guó)際工程集團(tuán)有限公司;CTF太陽(yáng)能有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明偉 |
| 地址: | 200063 上海市普*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用來 制造 cdte 薄層 太陽(yáng)能電池 接觸 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種用來制造CdTe薄層太陽(yáng)能電池的背接觸層的方法。本發(fā)明的主題是一種制造基材上置式薄層太陽(yáng)能電池的背接觸層的Sb2Te3層的方法。根據(jù)現(xiàn)有技術(shù),Sb2Te3層作為化合物沉積?,F(xiàn)在根據(jù)本發(fā)明提出,Sb2Te3層由碲化鎘層的富碲的表面層和沉積在該富碲表面層上的銻,以及銻和碲在表面層上的反應(yīng)生成。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的主題是一種用來改進(jìn)性地實(shí)施背接觸層,更確切地說是CdTe薄層太陽(yáng)能電池的背接觸層序列的方法。
背景技術(shù)
根據(jù)現(xiàn)有技術(shù),基材上置(Superstrat-Konfiguration)式CdTe薄層太陽(yáng)能電池以如下方式制造:把透明的前接觸層(TCO;透明導(dǎo)電氧化物)涂覆到基材(優(yōu)選玻璃)上。在前接觸層上沉積硫化鎘(CdS)層,并且在硫化鎘層上涂覆碲化鎘(CdTe)層。再將背接觸層或者背接觸層序列沉積到CdTe層上。
在此問題是,在CdTe上涂布金屬的接觸層是不容易實(shí)現(xiàn)的,因?yàn)檫@會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)生整流的肖特基(Schottky)接觸。然而所希望的是產(chǎn)生歐姆接觸。層序列的任務(wù)是,使各個(gè)層材料的能級(jí)如此地實(shí)現(xiàn)調(diào)整,即,生成歐姆接觸,其中,優(yōu)選金屬層作為最表面的背接觸層。
在制造過程中,在涂覆CdTe之后優(yōu)選借助于CdCl2以及加熱進(jìn)行CdTe的活化。
出自現(xiàn)有技術(shù)的方法設(shè)置為,碲化鎘層接著經(jīng)受濕法化學(xué)腐蝕。此外CdTe太陽(yáng)能電池被浸入到所謂的NP腐蝕液中。NP腐蝕液是不同的無機(jī)酸的水溶液,優(yōu)選(HNO3(0.5%-5%)/H3PO4(50%-85%)/H2O(15%-45%)(總計(jì)100%)。這在室溫(18℃到約80℃)的溫度范圍中進(jìn)行。腐蝕時(shí)間優(yōu)選為在5s到60s的范圍中。NP腐蝕的結(jié)果是,產(chǎn)生厚度在1nm到300nm的范圍內(nèi)的富碲層。
溴甲醇備選地用作腐蝕劑。在其中,Br2濃度優(yōu)選在0.1%-5%的范圍中,特別優(yōu)選地在0.5%-1%。優(yōu)選地,在腐蝕過程(腐蝕時(shí)間3s到30s)中優(yōu)選維持15℃到50℃的溫度,特別優(yōu)選地維持20℃到35℃的溫度,并且十分特別優(yōu)選地維持21℃到30℃的溫度。富碲層所達(dá)到的厚度在1nm到30nm的范圍中。
此外腐蝕步驟清潔了表面的氧化物,其在制造的過程進(jìn)程中在與大氣接觸的情況下在表面上產(chǎn)生。對(duì)此,可選地通過還原性的溶液進(jìn)行額外處理可能是必要的,以便盡可能完全地把氧化物從Te層去除。
接著,在根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的方法中,經(jīng)常優(yōu)選通過濺鍍Sb2Te3涂覆Sb2Te3層。接著涂覆背接觸層序列的其他覆層,典型地由鉬和鎳制成的覆層。相應(yīng)的方法在US7 211 462B1中進(jìn)行了描述,其中,放棄了腐蝕步驟并且僅僅進(jìn)行CdCl2表面處理。Sb2Te3層在此通過濺射涂覆。其他公知的涂覆Sb2Te3層的方法設(shè)置為蒸發(fā)或電沉積。在需要時(shí),還可以設(shè)置多個(gè)Sb2Te3層。
Sb2Te3層沉積是非常成本高昂的,因?yàn)镾b2Te3非常昂貴。
因此提出了以其他備用方式生成Sb2Te3層的任務(wù)。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明,所提出的任務(wù)通過根據(jù)權(quán)利要求1的方法解決。優(yōu)選實(shí)施形式在相關(guān)從屬權(quán)利要求中公開。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
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H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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