[發明專利]用于將粘性材料層施加至基底上的作用元件、裝置和方法在審
| 申請號: | 201310446342.1 | 申請日: | 2013-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN103706513A | 公開(公告)日: | 2014-04-09 |
| 發明(設計)人: | J·艾希納;R·弗萊希曼;T·C·皮爾茨 | 申請(專利權)人: | 威亞光電子有限公司 |
| 主分類號: | B05C5/00 | 分類號: | B05C5/00;B05C11/10;B05D1/26;B32B7/12 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 吳鵬;馬江立 |
| 地址: | 德國施瓦*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 粘性 材料 施加 基底 作用 元件 裝置 方法 | ||
1.用于將粘性材料(2)施加在基底(3)上的作用元件(5),包括:
a.至少一個終止在連接開口(7)中的連接通道(6),
b.多個終止在排出開口(10)中的排出通道(11),所述排出通道通過連接室(20)與所述連接通道(6)流動連接,
c.在連接開口(7)與每個所述排出開口(10)之間的區域中在粘性材料(2)上作用有流動阻力,
d.其特征在于,作用元件(5)包括用于對作用元件(5)的連接開口(7)與排出通道(11)的排出開口(10)之間的流動阻力進行影響的至少一個構造。
2.根據權利要求1所述的作用元件(5),其特征在于,用于對作用元件(5)的連接開口(7)與排出通道(11)的排出開口(10)之間的流動阻力進行影響的所述至少一個構造設計成,使得當從排出開口(10)排出時在粘性材料(2)中存在壓力pa,所述壓力pa在不同的排出開口(10)的區域中分別成對地相同。
3.根據前述權利要求中任一項所述的作用元件(5),其特征在于,用于對作用元件(5)的連接開口(7)與排出通道(11)的排出開口(10)之間的流動阻力進行影響的所述至少一個構造從如下清單中選出:排出通道(11)在作用元件(5)的寬度(B)上變化的長度(l)、排出通道(11)在作用元件(5)的寬度(B)上變化的橫截面、連接室(20)在作用元件(5)的寬度(B)上變化的橫截面、單獨的影響流動的構造在連接室(20)中的布置以及這些可選方案的組合。
4.根據前述權利要求中任一項所述的作用元件(5),其特征在于,所述排出通道(11)的長度(l)在作用元件(5)的寬度(B)上與圓錐曲線相對應地變化。
5.根據前述權利要求中任一項所述的作用元件(5),其特征在于,所述作用元件(5)具有基體(21)和與該基體螺紋連接的蓋件(16)。
6.根據權利要求5所述的作用元件(5),其特征在于,所述排出通道(11)是在基體(21)中銑出的。
7.根據前述權利要求中任一項所述的作用元件(5),其特征在于,所述排出通道(11)的數量至少為10,尤其是至少為30,尤其是至少為50。
8.根據前述權利要求中任一項所述的作用元件(5),其特征在于,所述排出通道(11)具有在0.05mm2至1mm2的范圍內的,尤其是在0.1mm2至0.3mm2的范圍內的流動橫截面。
9.一種用于將粘性材料(2)施加在基底(3)上的裝置(1),包括:
a.用于計量地提供粘性材料(2)的至少一個計量單元(4),以及
b.至少一個用于將粘性材料(2)引導到待涂覆的基底(3)上的、根據前述權利要求中任一項所述的作用元件(5)。
10.用于將粘性材料(2)層(14)施加在基底(3)上的方法,包括如下步驟:
a.提供待涂覆的基底(3),
b.提供根據權利要求9所述的裝置(1),
c.借助于所述裝置(1)將預定量的待施加材料施加在基底(3)上,
d.其中,使材料(2)以預定的壓力分布從不同的排出開口(10)排出。
11.根據權利要求10所述的方法,其特征在于,使材料(2)以相同的壓力pa從所有的排出開口(10)排出。
12.根據權利要求9至10中的任一項所述的方法,其特征在于,使材料(2)在單獨的射束中從排出開口(10)排出,這些射束在撞擊到基底(3)上之前匯合為一個連續的射束。
13.根據權利要求10至12中的任一項所述的方法,其特征在于,當將材料(2)施加在基底(3)上時,使得層(14)在作用元件(5)和基底(3)之間的區域中具有沿橫向均勻的、波動最高為10%的厚度。
14.根據權利要求10至13中的任一項所述的方法,其特征在于,當施加在所述基底(3)上時,使得層(14)的厚度(D)從作用元件(5)開始沿著移動方向(27)單調減小和/或從作用元件(5)開始反向于移動方向(27)是恒定的。
15.坯件,尤其是用于指示器的坯件,包括:
a.基底(3),
b.布置在基底(3)上的粘合劑(2)層(14),
c.所述層(14)是借助于根據權利要求10至14中的任一項所述的方法施加在基底(3)上的。
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