[發(fā)明專利]一種納米粉體材料制備系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310443654.7 | 申請日: | 2013-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN103464082A | 公開(公告)日: | 2013-12-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 孫仲毅;吳荻 | 申請(專利權(quán))人: | 宜昌市三峽天潤納米材料工程技術(shù)研究中心有限公司 |
| 主分類號: | B01J19/18 | 分類號: | B01J19/18;B01D1/18;B04B1/20;B04B7/08;F27B7/16;F27B7/20;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 東莞市華南專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44215 | 代理人: | 張明 |
| 地址: | 443007 *** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 納米 材料 制備 系統(tǒng) | ||
1.一種納米粉體材料制備系統(tǒng),其特征在于:包括低溫反應(yīng)釜、臥式離心機(jī)、高溫水熱反應(yīng)釜、離心噴霧干燥器、煅燒回轉(zhuǎn)窯爐和包裝設(shè)備,所述低溫反應(yīng)釜、臥式離心機(jī)、高溫水熱反應(yīng)釜、離心噴霧干燥器、煅燒回轉(zhuǎn)窯爐和包裝設(shè)備依次連接;
所述臥式離心機(jī)包括機(jī)座、機(jī)殼、轉(zhuǎn)鼓、螺旋輸送器和變速裝置,所述機(jī)殼設(shè)置于所述機(jī)座的上方,所述轉(zhuǎn)鼓設(shè)置于所述機(jī)殼的內(nèi)腔,所述螺旋輸送器水平設(shè)置于所述轉(zhuǎn)鼓的內(nèi)部,所述變速裝置與所述螺旋輸送器連接,所述轉(zhuǎn)鼓由以下質(zhì)量百分比的原料:2%-3%鈦、1%-2%鈷和95%-97%雙相鋼離心澆鑄而成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米粉體材料制備系統(tǒng),其特征在于:所述高溫水熱反應(yīng)釜,包括內(nèi)筒體,所述內(nèi)筒體的外層設(shè)置有夾套筒體,所述內(nèi)筒體的上部連接有釜蓋,所述內(nèi)筒體與釜蓋組成反應(yīng)釜的釜體,所述釜體的內(nèi)部設(shè)置有攪拌裝置,其特征在于:所述內(nèi)筒體和夾套筒體之間設(shè)置有若干條第一導(dǎo)流板,所述第一導(dǎo)流板呈螺旋形盤繞在內(nèi)筒體和夾套筒體之間,所述第一導(dǎo)流板在內(nèi)筒體和夾套筒體之間形成螺旋形通道;
所述內(nèi)筒體的體壁沿軸向設(shè)置有若干條第二導(dǎo)流板;
所述攪拌裝置的攪拌軸沿軸向設(shè)置有若干條第三導(dǎo)流板;
所述釜體的內(nèi)部還設(shè)置有加熱盤管,所述加熱盤管呈螺旋形盤繞于釜體的內(nèi)部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的納米粉體材料制備系統(tǒng),其特征在于:所述加熱盤管包括內(nèi)層加熱盤管和外層加熱盤管,所述內(nèi)層加熱盤管位于釜體的上方并靠近于攪拌軸,所述外層加熱盤管位于釜體內(nèi)部并靠近于內(nèi)筒體的內(nèi)壁。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米粉體材料制備系統(tǒng),其特征在于:所述離心噴霧干燥器,包括基座、機(jī)殼、電機(jī)、變速器、主軸、分料盤及霧化盤,所述機(jī)殼設(shè)置于基座的下方并與基座固定連接,變速器固定安裝于基座的頂部,電機(jī)設(shè)置于變速器的上方且電機(jī)輸出軸與變速器連接,主軸設(shè)置于機(jī)殼內(nèi)且與變速器連接,分料盤套設(shè)于主軸的外側(cè)面,其特征在于:所述霧化盤包括盤體,該盤體的直徑為150mm,盤體的厚度為15mm,盤體的周壁均勻開設(shè)有若干個個噴霧孔,盤體的中部開設(shè)有一環(huán)形進(jìn)料槽,該環(huán)形進(jìn)料槽的外徑為60mm,環(huán)形進(jìn)料槽的深度為10mm;所述噴霧孔與環(huán)形進(jìn)料槽相通,環(huán)形進(jìn)料槽的中部開設(shè)有一錐孔,霧化盤通過該錐孔套接于主軸的外側(cè)面,且環(huán)形進(jìn)料槽與分料盤的出口相通。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米粉體材料制備系統(tǒng),其特征在于:所述煅燒回轉(zhuǎn)窯爐,包括爐體支架,所述爐體支架設(shè)置有回轉(zhuǎn)滾筒,所述回轉(zhuǎn)滾筒的前端設(shè)置有進(jìn)料裝置,所述回轉(zhuǎn)滾筒的后端設(shè)置有出料裝置,所述爐體支架設(shè)置有驅(qū)動裝置,所述驅(qū)動裝置與回轉(zhuǎn)滾筒連接并帶動回轉(zhuǎn)滾筒在爐體支架上旋轉(zhuǎn),所述回轉(zhuǎn)滾筒由前端往后端向下傾斜設(shè)置于所述爐體支架,所述回轉(zhuǎn)滾筒的內(nèi)壁沿軸向排布有若干撥料筋板;
所述回轉(zhuǎn)滾筒的中部設(shè)置為高溫煅燒段,所述高溫煅燒段采用雙相不銹鋼離心澆鑄成胚料并經(jīng)過鍛造而成;
雙相不銹鋼離心澆鑄過程中還增加了0.2%~0.8%(質(zhì)量百分比)的鎢和0.1%~0.6%(質(zhì)量百分比)的鈷;
所述高溫煅燒段設(shè)置有加熱裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的納米粉體材料制備系統(tǒng),其特征在于:所述第一導(dǎo)流板的數(shù)量為4條。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米粉體材料制備系統(tǒng),其特征在于:所述轉(zhuǎn)鼓由以下質(zhì)量百分比的原料:2.5%鈦、1.5%鈷和96%雙相鋼離心澆鑄而成。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的納米粉體材料制備系統(tǒng),其特征在于:所述噴霧孔為八個。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的納米粉體材料制備系統(tǒng),其特征在于:所述撥料筋板的數(shù)量為八個,八個撥料筋板均勻排布于回轉(zhuǎn)滾筒的高溫煅燒段的內(nèi)壁。
10.根據(jù)權(quán)利要求1~9任意一項所述的納米粉體材料制備系統(tǒng),其特征在于:所述離心噴霧干燥器和煅燒回轉(zhuǎn)窯爐之間連接有第一氣流粉碎機(jī),所述煅燒回轉(zhuǎn)窯爐和包裝設(shè)備之間連接有第二氣流粉碎機(jī)。
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