[發(fā)明專利]磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310443373.1 | 申請日： | 2013-09-25 |
| 公開（公告）號： | CN104464888B | 公開（公告）日： | 2017-01-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉振宇;李祿興;曾吉永;吳總成 | 申請（專利權(quán)）人： | 宸鴻光電科技股份有限公司 |
| 主分類號： | H01B1/24 | 分類號： | H01B1/24;H01B13/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11006 | 代理人： | 王玉雙 |
| 地址： | 中國臺灣*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 磺化 高分子 石墨 納米 復(fù)合材料 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料，其特征在于，包括石墨烯和均勻分散在所述石墨烯層間的磺化高分子，所述石墨烯構(gòu)成一導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料，其特征在于，所述磺化高分子為帶有磺酸根鏈段的高分子。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料，所述磺化高分子選自磺化聚酰亞胺、磺化聚二乙炔、磺化聚乙烯醇中的一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料，其特征在于，所述石墨烯在所述磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料的重量百分比為0.1%～1%。
5.一種磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
將氧化石墨烯與磺化高分子在溶劑中混合得到混合溶液；及
往所述混合溶液中加入還原劑進(jìn)行還原反應(yīng)得到磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料，所述磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料包括石墨烯和均勻分散在所述石墨烯層間的磺化高分子。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料的制備方法，其特征在于，所述磺化高分子為帶有磺酸根鏈段的高分子。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料的制備方法，其特征在于，所述磺化高分子選自磺化聚酰亞胺、磺化聚二乙炔及磺化聚乙烯醇中的一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料的制備方法，其特征在于，所述石墨烯在所述磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料的重量百分比為0.1%～1%。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料的制備方法，其特征在于，所述溶劑選自去離子水、二甲基亞砜、二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮及乙醇中的一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料的制備方法，其特征在于，所述氧化石墨烯在所述混合溶液中的濃度為1mg/mL。
11.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料的制備方法，其特征在于，所述還原劑為聯(lián)胺。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料的制備方法，其特征在于，往所述混合溶液中加入還原劑進(jìn)行還原反應(yīng)得到磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料的步驟為：在25℃的溫度下，按照所述氧化石墨烯與所述聯(lián)胺為1g：5mL的比例往所述混合溶液中加入質(zhì)量濃度為50%的聯(lián)胺，攪拌1分鐘，之后加熱到100℃下回流反應(yīng)2小時(shí)，分離純化，進(jìn)而得到磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料。
13.一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的磺化高分子/石墨烯納米復(fù)合材料在觸控面板上的應(yīng)用。
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