[發(fā)明專利]半導體清洗組合物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310439776.9
• 申請日: 2013-09-25
• 公開（公告）號: CN103513522B
• 公開（公告）日: 2018-06-01
• 發(fā)明（設計）人: 楊高林
• 申請（專利權）人: 青島果子科技服務平臺有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于去除光刻膠殘留物的清洗組合物，其特征在于：由小分子抑制劑混合物、溶劑、季銨氫氧化物、檸檬酸/檸檬酸鹽緩沖水溶液、烷基二醇芳基醚組成；

所述的檸檬酸/檸檬酸鹽緩沖水溶液在清洗組合物中的含量為質量百分比30％～50％，所述小分子抑制劑的含量為0.5％～15％，所述溶劑的含量為30％～60％，所述季銨氫氧化物的含量為0.1～15％、所述烷基二醇芳基醚的含量為1～15％；

所述小分子抑制劑混合物是肉桂基咪唑啉和2-甲基-5-十二烷基異惡唑構成的混合物；

所述肉桂基咪唑啉和2-甲基-5-十二烷基異惡唑混合質量比為1:1.2～1.5。

2.如權利要求1所述的清洗組合物，其特征在于：所述肉桂基咪唑啉的制備方法具體為，

將10ml分析純的二乙烯三胺置于四口燒瓶中，升溫至150℃，滴入3ml分析純甲苯，添加22g分析純的肉桂酸，在氮氣環(huán)境下進行攪拌，再升溫至170℃開始酰化脫水，反應5h以后，升溫至240℃開始環(huán)化脫水3h，反應完畢后將其置于真空干燥箱中干燥，得到棕褐色粘稠狀的肉桂基咪唑啉，反應式如下：

3.如權利要求1或2所述的清洗組合物，其特征在于：所述的溶劑可選自亞砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醚中的一種或多種。

4.如權利要求1或2所述的清洗組合物，其特征在于：所述的季銨氫氧化物為四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨或芐基三甲基氫氧化銨。

5.如權利要求1或2所述的清洗組合物，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚為丙二醇單苯基醚、異丙二醇單苯基醚、二乙二醇單苯基醚、二丙二醇單苯基醚、二異丙二醇單苯基醚、三乙二醇單苯基醚、三丙二醇單苯基醚、三異丙二醇單苯基醚、六縮乙二醇單苯基醚、六縮丙二醇單苯基醚、六縮異丙二醇單苯基醚、丙二醇單芐基醚、異丙二醇單芐基醚或己二醇單萘基醚。

6.權利要求1或2所述清洗組合物的制備方法，其特征在于：將上述各組分按比例混合，攪拌均勻，即得。