[發(fā)明專利]基于遠場的變形反射面天線相位中心修正方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310436340.4 | 申請日: | 2013-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN103490172A | 公開(公告)日: | 2014-01-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | 連培園;王偉;段寶巖;朱敏波;李鵬;張逸群;許萬業(yè);胡乃崗;楊癸庚 | 申請(專利權)人: | 西安電子科技大學 |
| 主分類號: | H01Q19/10 | 分類號: | H01Q19/10;H01Q3/32 |
| 代理公司: | 陜西電子工業(yè)專利中心 61205 | 代理人: | 王品華;朱紅星 |
| 地址: | 710071*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 變形 反射 天線 相位 中心 修正 方法 | ||
1.一種基于遠場的變形反射面天線相位中心修正方法,包括如下步驟:
(1)用變形反射面天線的最佳吻合參數p,建立最佳吻合拋物面的口徑面總光程差δ;
(2)用步驟(1)中的口徑面總光程差δ,建立最佳吻合拋物面的口徑面相位差
(3)根據口徑場方法,利用步驟(2)中的口徑面相位差建立變形反射面天線遠場電場E′(θ,φ)計算公式:
式中,θ為球坐標系的仰角,φ為球坐標系的方位角,該球坐標系的圓心處于口徑面中心o0,對應的笛卡爾坐標系為o0x0y0z0,ρ′為x0o0y0平面內極坐標的極徑分量,φ′為x0o0y0平面內極坐標的極角分量,Q(ρ′,φ′)為口徑場分布函數,j為虛數符號,為波常數,f′為工作頻率,c′為光速,A為反射面天線在x0o0y0平面上的投影面積;
(4)對步驟(3)中指數項進行一階泰勒級數展開,用最佳吻合參數p表示近似遠場電場E′a(θ,φ):
E′a(θ,φ)=E(θ,φ)+cT(θ,φ)·p,
其中,c(θ,φ)為遠場測量點(θ,φ)處的電場對最佳吻合參數p的敏度列向量,E(θ,φ)為遠場測量點(θ,φ)處的理想電場,上標T為矩陣轉置運算符;
(5)在主波束附近選擇m個遠場測量點(θi,φi),i=1,2,…,m,m≥6,分別帶入步驟(4)近似遠場電場E′a(θ,φ)中,組成以最佳吻合參數p為變量的線性方程組:
式中,
(6)根據步驟(4)的敏度列向量c(θ,φ),生成m個遠場測量點(θi,φi)處的電場對最佳吻合參數p的敏度數據cd(θi,φi),將敏度數據按照測量點順序整理成矩陣B的形式存儲起來;
(7)根據口徑場方法,生成m個遠場測量點(θi,φi)處理想電場數據Ed(θi,φi),將理想電場數據按照測量點順序整理成列向量的形式存儲起來;
(8)測量m個遠場測量點(θi,φi)處的實際電場數據E′d(θi,φi),將測量的實際電場數據按照測量點順序整理成列向量的形式存儲起來;
(9)調用步驟(6)、(7)、(8)存儲的數據文件,求解步驟(5)的線性方程組,得到最佳吻合參數p的最小二乘解;
(10)將步驟(9)中最佳吻合參數p的最小二乘解帶入下面三式,求得變形反射面天線的相位中心修正量:
Δf1=uo+f·sin(β)≈uo+f·β,
Δf2=vo-f·sin(α)≈vo-f·α,
Δf3=wo-[2f-f·cos(α)-f·cos(β)]+h≈wo+h,
其中,Δf1為相位中心沿X′軸的修正量,Δf2為相位中心沿Y′軸的修正量,Δf3為相位中心沿Z′軸的修正量;
(11)根據相位中心修正量Δf1、Δf2和Δf3,將饋源沿X′軸移動Δf1,沿Y′軸移動Δf2,沿Z′軸移動Δf3,實現(xiàn)變形反射面天線相位中心的修正。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于西安電子科技大學,未經西安電子科技大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310436340.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





