[發(fā)明專利]防腐劑混合物和光刻膠剝離劑組合物

在審

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• 申請日: 2013-09-24
• 公開（公告）號: CN103513520A
• 公開（公告）日: 2014-01-15
• 發(fā)明（設計）人: 劉超
• 申請（專利權）人: 劉超
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發(fā)明涉及印刷電路板平板印刷技術領域，尤其涉及一種用于顯影過程之后剝離光刻膠的光刻膠剝離劑組合物，更進一步涉及一種在去除用于布圖金屬布線的光刻膠時，能夠降低對金屬布線的腐蝕，且能達到優(yōu)秀的剝離效果的光刻膠剝離劑組合物。

背景技術

光刻膠是在照相平版印刷工藝中必不可少的物質，而照相平版印刷工藝一般應用于集成電路、大規(guī)模集成電路、超大規(guī)模集成電路等半導體裝置和液晶顯示器、平板顯示器等圖像顯示裝置的制造。

基板上光致抗蝕劑的去除技術有：濕式剝離，其使用被稱之為光致抗蝕劑剝離液的化學藥品，使光致抗蝕溶解或部分溶解，由此從基板上剝離光致抗蝕劑；以及干式剝離，其使用被稱之為灰化成分的處于等離子狀態(tài)的氧氣等將光致抗蝕劑以及光致抗蝕劑變質層灰化去除。可以選擇適于各自的制造工序的去除技術。

以前，對于光致抗蝕劑以及光致抗蝕劑變質層的去除，主要使用灰化方法。另外，在只采用灰化方法而難以從基板上完全去除來自光致抗蝕劑以及光致抗蝕劑變質層的灰化物的情況下，灰化處理之后，并用基于光致抗蝕劑殘渣去除液的處理。再者，對于灰化去除比較困難的側壁保護沉積膜的去除，也可以使用濕式剝離。在此，所謂光致抗蝕劑殘渣，意味著下列的殘渣全部包括在內：灰化處理后殘留在基板表面的不完全灰化物即光致抗蝕劑殘渣，殘留在布線以及殘留在導通孔側面的側壁聚合物(也稱為側壁保護膜)，以及殘留在導通孔側面和底面的有機金屬聚合物、金屬氧化物等。

在采用濕式剝離的情況下，可以使用烷基苯和烷基苯磺酸的酸性光致抗蝕劑剝離液、以及烷醇胺等的堿性光致抗蝕劑剝離液等，其用于通過離子照射和熱形成的光致抗蝕劑變質層，但難以剝離干蝕刻形成的光致抗蝕劑變質層。因此，提出了由烷醇胺、二羥基苯以及二甲亞砜構成的光致抗蝕劑剝離液等。

另外，殘留在布線以及導通孔側面的側壁聚合物和在殘留導通孔側面以及底面的有機金屬聚合物等光致抗蝕劑殘渣的一部分、以及布線材料等的被蝕刻材料，通過干蝕刻而實現(xiàn)無機化。因此，作為具有剝離光致抗蝕劑和去除無機成分這兩種功能的洗滌組合物，也提出了以羥胺和烷醇胺為主成分的組合物。另外，作為僅去除無機成分的洗滌劑，已經提出了氟化銨、四烷基醋酸銨、二甲基甲酰胺以及水構成的組合物。

但是，在使用這些光致抗蝕劑剝離液或光致抗蝕劑殘渣去除液的情況下，為了不腐蝕布線材料，需要進行采用異丙醇等有機溶劑的沖洗，為了完全去除光致抗蝕劑殘渣，需要進行高溫下的處理。再者，光致抗蝕劑殘渣與布線材料的組成類似，所以采用這些光致抗蝕劑殘渣去除液進行基板處理時，存在的問題是對布線材料造成腐蝕，從而影響產品的質量。

因此，如何實現(xiàn)能夠在進行光刻膠剝離的過程中防止對布線材料造成腐蝕成為人們研究的重點，本發(fā)明就是在此基礎上提出的一種光刻膠剝離劑組合物，其對光刻膠層具有優(yōu)良的剝離性，且不會對金屬布線材料產生浸蝕。

發(fā)明內容

本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種新型的光刻膠剝離劑組合物，其對光刻膠層具有優(yōu)良的剝離性，且不會對金屬布線材料產生浸蝕，在半導體電路元件制造工序中，具有很大的優(yōu)勢。

為解決上述技術問題，本發(fā)明提供了一種防腐劑混合物，其包括肉桂基咪唑啉和2-甲基-5-十二烷基異惡唑。

其中，所述防腐劑混合物僅由肉桂基咪唑啉和2-甲基-5-十二烷基異惡唑構成。

所述肉桂基咪唑啉和2-甲基-5-十二烷基異惡唑混合質量比為1：1.2～1.5。

其中，所述肉桂基咪唑啉的制備方法具體為：

將10ml分析純的二乙烯三胺置于四口燒瓶中，升溫至150℃，滴入3ml分析純甲苯，添加22g分析純的肉桂酸，在氮氣環(huán)境下進行攪拌，再升溫至170℃開始酰化脫水，反應5h以后，升溫至240℃開始環(huán)化脫水3h，反應完畢后將其置于真空干燥箱中干燥，得到棕褐色粘稠狀的肉桂基咪唑啉。

本發(fā)明還提供了上述防腐劑混合物在制備光刻膠剝離劑組合物中的應用。

為解決上述技術問題，本發(fā)明提供了一種光刻膠剝離劑組合物，其包括多元醇混合物、氫氧化季氨鹽、醇鈉、嗎啉、表面活性劑、水溶性有機溶劑、防腐蝕劑混合物、有機胺和去離子水。

其中，所述光刻膠剝離劑組合物中各組分的重量百分比為多元醇混合物10～20質量％、氫氧化季氨鹽3～10質量％、醇鈉15～25質量％、嗎啉3～5質量％、表面活性劑2～6質量％、水溶性有機溶劑5～20質量％、防腐蝕劑混合物6～12質量％、有機胺10％～30％和佘量的去離子水。