[發明專利]PVD復合膜層及其制備方法有效
| 申請號： | 201310430773.9 | 申請日： | 2013-09-18 |
| 公開（公告）號： | CN103436843A | 公開（公告）日： | 2013-12-11 |
| 發明（設計）人： | 庾杰仁 | 申請（專利權）人： | 佛山市偉盛利得鍍膜有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/06 | 分類號： | C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吳開磊 |
| 地址： | 528225 廣東省佛山市南海*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | pvd 復合 及其 制備 方法 | ||
1.PVD復合膜層，其特征在于，包括金屬鋯層和氮化鈦層，所述金屬鋯層鍍覆在基體上，所述氮化鈦鍍層鍍覆在所述金屬鋯層上。
2.根據權利要求1所述的PVD復合膜層，其特征在于，所述金屬鋯層的厚度為100-120nm。
3.根據權利要求1所述的PVD復合膜層，其特征在于，所述氮化鈦層的厚度為100-200nm。
4.根據權利要求1所述的PVD復合膜層，其特征在于，還包括金屬鉻層，所述金屬鉻層位于所述金屬鋯層與所述氮化鈦層之間。
5.根據權利要求4所述的PVD復合膜層，其特征在于，所述金屬鉻層的厚度為100-120nm。
6.根據權利要求1-5任一項所述的PVD復合膜層，其特征在于，還包括氧化鋯層，所述氧化鋯層鍍覆在所述氮化鈦層上。
7.根據權利要求6所述的PVD復合膜層，其特征在于，所述氧化鋯層的厚度為50-100nm。
8.權利要求1-7任一項所述的PVD復合膜層的制備方法，其特征在于，包括：
清洗基體表面；
在清洗后的所述基體表面鍍金屬鋯層；
在所述金屬鋯層上鍍氮化鈦層。
9.根據權利要求8所述的PVD復合膜層的制備方法，其特征在于，在所述的在清洗后的所述基體表面鍍金屬鋯層之后，在所述的在所述金屬鋯層上鍍氮化鈦層之前，所述制備方法還包括鍍所述金屬鉻層的步驟，在所述金屬鋯層上鍍所述金屬鉻層，在所述金屬鉻層上鍍所述氮化鈦層。
10.根據權利要求8或9所述的PVD復合膜層的制備方法，其特征在于，在所述的在所述金屬鋯層上鍍氮化鈦層之后，所述制備方法還包括鍍所述氧化鋯層的步驟。
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