[發明專利]一種旋轉交換手自適應保護裝置及其保護方法有效
| 申請號: | 201310429043.7 | 申請日: | 2013-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN104465449B | 公開(公告)日: | 2017-08-29 |
| 發明(設計)人: | 鄭鋒標;馬喜寶 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備(集團)股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/683;H01L21/677;G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237 | 代理人: | 屈蘅,李時云 |
| 地址: | 201203 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 旋轉 換手 自適應 保護裝置 及其 保護 方法 | ||
1.一種旋轉交換手自適應保護裝置,其特征在于,包括吸附單元、保護單元以及安裝定位調平單元,其中,
所述吸附單元包括吸盤和安裝于所述吸盤上,并與所述吸盤相連通的氣管接頭;
所述安裝定位調平單元固定于所述吸盤上方,包括Z向升降機構、傾斜機構以及彈性機構,所述Z向升降機構通過所述彈性機構與所述傾斜機構連接,共同控制所述吸盤的Z向運動以及傾斜調節;
所述保護單元包括真空系統以及反饋系統,所述反饋系統為所述真空系統提供真空壓力的補償。
2.如權利要求1所述的一種旋轉交換手自適應保護裝置,其特征在于,所述Z向升降機構包括升降盤、固定盤和懸臂,所述升降盤的頂部穿過所述固定盤與懸臂固定連接;所述傾斜機構包括升降底盤,均布于所述升降底盤上的多個凹槽塊,分別與所述多個凹槽塊形狀匹配、位置對應的多個調節螺柱,所述多個調節螺柱穿過所述固定盤并分別通過多個螺母與所述固定盤連接;所述彈性機構的一端固定于所述升降盤,另一端穿過所述升降底盤與所述吸盤連接。
3.如權利要求2所述的一種旋轉交換手自適應保護裝置,其特征在于,所述升降盤底部還均布有多個傳感器,檢測所述升降盤底部與所述升降底盤之間的位移關系。
4.如權利要求2所述的一種旋轉交換手自適應保護裝置,其特征在于,所述調節螺柱為球頭螺柱。
5.如權利要求2所述的一種旋轉交換手自適應保護裝置,其特征在于,所述多個螺母包含固定螺母和調整螺母。
6.如權利要求2所述的一種旋轉交換手自適應保護裝置,其特征在于,所述凹槽塊為V型槽塊或U型槽塊。
7.如權利要求1所述的一種旋轉交換手自適應保護裝置,其特征在于,所述保護單元還包括輔助保護機構,所述輔助保護機構包括保護叉和氣缸,所述保護叉設置于整個保護裝置的外圍,所述氣缸為所述保護叉的張開和閉合提供動力。
8.如權利要求1所述的一種旋轉交換手自適應保護裝置,其特征在于,所述真空系統包括兩條真空氣路,采用氣動控制箱控制所述真空系統對所述兩條真空氣路進行選擇。
9.如權利要求8所述的一種旋轉交換手自適應保護裝置,其特征在于,每條真空氣路與一個反饋系統相連,所述反饋系統包括真空傳感器、備用真空泵以及備用真空氣囊,所述真空傳感器與所述備用真空泵相連,所述備用真空泵與所述備用真空氣囊相連,所述備用真空氣囊與所述真空系統相連。
10.一種旋轉交換手自適應保護方法,應用于如權利要求1~9中任一項所述的旋轉交換手自適應保護裝置,其特征在于,其步驟包括:
S1:所述保護裝置移動至掩模上方;
S2:所述安裝定位調平單元帶動所述吸盤向下運動;
S3:判斷所述掩模與所述吸盤的位置關系,若掩模與吸盤的傾斜角度在所述保護裝置的自適應調節范圍內,所述吸盤繼續向下運動,并進行吸附運動;若掩模與吸盤的傾斜角度在所述保護裝置的自適應調節范圍以外,所述吸盤停止向下,吸附運動停止。
11.如權利要求10所述的一種旋轉交換手自適應保護方法,其特征在于,所述吸附運動過程中,利用真空傳感器對所述吸盤的真空壓力進行檢測,若壓力無變化,則所述真空系統正常工作;若壓力出現變化,則反饋系統啟動,為所述真空系統提供真空壓力補償。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





