[發(fā)明專利]一種區(qū)田植物籬復(fù)合耕作方法及其結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310426285.0
• 申請(qǐng)日: 2013-09-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104429207B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭進(jìn);文安邦;巨莉;何孟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院;水利部成都山地災(zāi)害與環(huán)境研究所;四川省水利科學(xué)研究院;四川省電力設(shè)計(jì)院
• 主分類號(hào): A01B79/00
• 分類號(hào): A01B79/00;E02D17/20
• 代理公司: 成都頂峰專利事務(wù)所(普通合伙)51224
• 代理人: 任遠(yuǎn)高

1.在坡面地塊上坡頂部、下坡腳部設(shè)置護(hù)坡地埂(D)，設(shè)計(jì)為土壤、碎石或土壤加碎石混合材質(zhì)的重力型永久擋土強(qiáng)構(gòu)造；以地埂劃分地塊邊界，形成坡面地塊最外圍攔蓄坡面徑流構(gòu)造，且提供一種方便農(nóng)民田間耕種行走的簡(jiǎn)易坡面小路；地埂上側(cè)為垂直面、下側(cè)坡面為傾斜面，地埂內(nèi)外兩側(cè)均種植植物籬；在護(hù)坡地埂的外側(cè)及坡面地塊左右兩側(cè)設(shè)置一定深度的開(kāi)挖排水邊溝(G)；坡面地塊內(nèi)部以相同間隔修筑等高水平截流夠(E)，水平溝橫截面呈倒?fàn)钐菪危蝗舾善叫械牡雀呓亓魷戏指钇旅娴貕K，形成等坡長(zhǎng)的坡面耕作小區(qū)，于各耕作小區(qū)內(nèi)順坡起順坡地壟(A)并挖筑順坡排水壟溝(F)，形成溝壟相間耕作模式；橫坡截留溝配置間隔為實(shí)際耕作坡面細(xì)溝侵蝕發(fā)生臨界坡長(zhǎng)(LS)的2倍；順坡壟溝、水平截流溝及排水邊溝共同構(gòu)成坡面排水網(wǎng)絡(luò)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述區(qū)田植物籬復(fù)合耕作模式，坡面壟作區(qū)田構(gòu)建是以地壟加壟溝田埂形成的格田或坑穴攔截水土的構(gòu)造，分為兩大部分：a順坡壟溝區(qū)田，在壟溝內(nèi)自上往下等間隔修筑橫向順坡壟溝區(qū)田土埂(F₁)，形成一道道橫坡?lián)跬痢皦Α保瑓^(qū)田土埂間距大小與坡度成反比；b水平截留溝區(qū)田，水平溝區(qū)田土埂(E₁)設(shè)計(jì)位置在各順坡地壟下緣；兩種區(qū)田土埂構(gòu)造及配置原理相似，橫剖面設(shè)計(jì)均為頂寬底窄倒?fàn)钐菪危v剖面設(shè)計(jì)均為頂窄底寬正梯形；水平截流溝區(qū)田土埂構(gòu)造尺寸為1.5倍于順坡壟溝區(qū)田土埂，水平截留溝開(kāi)挖深度以大于順坡壟溝深(H₁)的5-10cm為宜，且隨坡度增大而加深；順坡壟溝區(qū)田土埂的設(shè)置高度以齊平田面為宜，水平截流溝區(qū)田土埂設(shè)置高度應(yīng)低于田面5cm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述區(qū)田植物籬復(fù)合耕作模式，坡面等高地埂植物籬(B)配置方式如下：以橫坡截流溝切割地塊形成等坡長(zhǎng)(2LS)的耕作小區(qū)，在相鄰水平截流溝間的耕作單元中部橫坡起壟，形成一小型坡面橫向攔擋地埂；地埂剖面設(shè)計(jì)寬度為順坡耕作地壟寬度的2／3，壟高設(shè)置與順坡地壟齊平，也可適當(dāng)高出順坡地壟5cm左右，其高度與坡度大小成正比；橫坡地壟上種植水保植物籬，植物籬配置可是多年生低矮密根系作物(如韭菜、黃花菜等)，或?yàn)楫?dāng)季糧食作物以緩解當(dāng)?shù)馗刭Y源緊缺矛盾。

4.根據(jù)權(quán)利要求1、權(quán)利要求2及權(quán)利要求3所述的“一種區(qū)田植物籬復(fù)合耕作模式及其構(gòu)造”由坡面水平截留溝(E)、順坡耕作地壟(A)以及地埂植物籬(B)配套設(shè)計(jì)，形成“一溝一壟一籬”的坡耕地復(fù)合耕作模式。