[發(fā)明專利]相位差膜及其制造方法和顯示設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310425654.4 | 申請日： | 2013-09-17 |
| 公開（公告）號： | CN103605176A | 公開（公告）日： | 2014-02-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 吳坤 | 申請（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/30 | 分類號： | G02B5/30;G02B27/26;G02F1/13363 |
| 代理公司： | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陳源 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 相位差 及其 制造 方法 顯示 設(shè)備 | ||
1.一種相位差膜，其特征在于，包括：相位延遲層和對形成于所述相位延遲層上的固化材料進(jìn)行固化處理形成的固化材料層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相位差膜，其特征在于，所述固化材料包括：紫外線固化材料或者熱固化材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的相位差膜，其特征在于，所述固化材料層的厚度為：20um至500um。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的相位差膜，其特征在于，所述固化材料層的厚度為：20um至100um。
5.一種顯示設(shè)備，其特征在于，包括：顯示裝置和位于所述顯示裝置出光面?zhèn)鹊南辔徊钅ぃ鱿辔徊钅げ捎蒙鲜鰴?quán)利要求1至4任一所述的相位差膜。
6.一種相位差膜的制造方法，其特征在于，包括：
步驟一，形成相位延遲層；
步驟二，在所述相位延遲層上形成固化材料；
步驟三，通過固化工藝對所述固化材料進(jìn)行固化處理，形成固化材料層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的相位差膜的制造方法，其特征在于，所述步驟二包括：通過旋涂工藝、狹縫涂布工藝、線棒式涂布工藝或者噴墨式涂布工藝在所述相位延遲層上形成所述固化材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的相位差膜的制造方法，其特征在于，所述固化材料包括：紫外線固化材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的相位差膜的制造方法，其特征在于，所述步驟三包括：
通過紫外線固化工藝對所述紫外線固化材料進(jìn)行紫外線固化。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的相位差膜的制造方法，其特征在于，所述紫外線固化工藝中紫外線的波長為：200nm至400nm。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的相位差膜的制造方法，其特征在于，所述紫外線固化工藝中紫外線的波長為：365nm。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的相位差膜的制造方法，其特征在于，所述紫外線固化工藝中紫外線的照射時間為：2s至10s。
13.根據(jù)權(quán)利要求6所述的相位差膜的制造方法，其特征在于，所述固化材料包括：熱固化材料。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的相位差膜的制造方法，其特征在于，所述步驟三包括：
通過熱固化工藝對所述熱固化材料進(jìn)行熱固化。
15.根據(jù)權(quán)利要求6至14任一所述的相位差膜的制造方法，其特征在于，所述固化材料層的厚度為：20um至500um。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的相位差膜的制造方法，其特征在于，所述固化材料層的厚度為：20um至100um。
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