[發明專利]PECVD載板轉換裝置有效
| 申請號： | 201310425053.3 | 申請日： | 2013-09-17 |
| 公開（公告）號： | CN103469176A | 公開（公告）日： | 2013-12-25 |
| 發明（設計）人： | 尤耀明;龔建新 | 申請（專利權）人： | 無錫綠波新能源設備有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/458 | 分類號： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 無錫市大為專利商標事務所 32104 | 代理人： | 曹祖良 |
| 地址： | 214092 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | pecvd 轉換 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種PECVD載板轉換裝置，包括兩個互相平行的上導軌（3），其特征是：兩個上導軌（3）上端通過螺釘共同連接上連接板（1），兩個上導軌（3）下端通過螺釘共同連接下連接板（2）；上導軌（3）上表面兩端通過螺釘分別連接上限位導軌（5）和下限位導軌（6），上導軌（3）下表面通過螺釘連接下導軌（4）。
2.如權利要求1所述的PECVD載板轉換裝置，其特征是：所述上限位導軌（5）一端連接上連接板（1）。
3.如權利要求1所述的PECVD載板轉換裝置，其特征是：所述下限位導軌（6）一端連接下連接板（2）。
4.如權利要求1所述的PECVD載板轉換裝置，其特征是：所述上限位導軌（5）和下限位導軌（6）之間的距離大于等于1.86米。
5.如權利要求1所述的PECVD載板轉換裝置，其特征是：所述上導軌（3）和下導軌（4）長度相同。
6.如權利要求1所述的PECVD載板轉換裝置，其特征是：所述上導軌（3）采用鈦合金材料制作。
7.如權利要求1所述的PECVD載板轉換裝置，其特征是：所述上連接板（1）、下連接板（2）、下導軌（4）、上限位導軌（5）和下限位導軌（6）采用C/C復合材料制作。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
