[發明專利]一種太陽能電池的制造工藝流程

無效

• 申請號: 201310424331.3
• 申請日: 2013-09-17
• 公開（公告）號: CN104465859A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 哈爾濱市宏天銳達科技有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種太陽能電池的制造工藝流程，其特征在于：所述的工藝流程是采用以下步驟來實現的：

（1）硅片切割，材料準備：所用的單晶硅材料，一般采用坩鍋直拉法制的太陽級單晶硅棒，原始的形狀為圓柱形，然后切割成方形硅片（或多晶方形硅片），硅片的邊長一般為10~15cm，厚度約200~350um，電阻率約1Ω.cm的p型（摻硼）；?????（2）去除損傷層：硅片在切割過程會產生大量的表面缺陷，表面的質量較差，電池制造過程中導致碎片增多，將切割損傷層去除，一般采用堿或酸腐蝕，腐蝕的厚度約10um；?????（3）制絨：是把相對光滑的原材料硅片的表面通過酸或堿腐蝕，使其凸凹不平，變得粗糙，形成漫反射，減少直射到硅片表面的太陽能的損失，對于單晶硅來說一般采用NaOH加醇的方法腐蝕，利用單晶硅的各向異性腐蝕，在表面形成無數的金字塔結構，堿液的溫度約80度，濃度約1~2%，腐蝕時間約15分鐘，對于多晶來說，一般采用酸法腐蝕；?????（4）擴散制結：擴散的目的在于形成PN結，普遍采用磷做n型摻雜，在擴散前硅片表面的潔凈非常重要，要求硅片在制絨后要進行清洗，即用酸來中和硅片表面的堿殘留和金屬雜質；

（5）邊緣刻蝕、清洗：擴散過程中，在硅片的周邊表面也形成了擴散層，周邊擴散層使電池的上下電極形成短路環，必須將它除去，周邊上存在任何微小的局部短路都會使電池并聯電阻下降，以至成為廢品，目前，工業化生產用等離子干法腐蝕，在輝光放電條件下通過氟和氧交替對硅作用，去除含有擴散層的周邊，擴散后清洗的目的是去除擴散過程中形成的磷硅玻璃；

　?（6）沉積減反射層：積減反射層的目的在于減少表面反射，增加折射率；

???（7）絲網印刷上下電極：電極的制備是太陽電池制備過程中一個至關重要的步驟，現在普遍采用絲網印刷法，即通過特殊的印刷機和模版將銀漿鋁漿（銀鋁漿）印刷在太陽電池的正背面，以形成正負電極引線；

???（8）共燒形成金屬接觸：晶體硅太陽電池要通過三次印刷金屬漿料，傳統工藝要用二次燒結才能形成良好的帶有金屬電極歐姆接觸，共燒工藝只需一次燒結，同時形成上下電極的歐姆接觸，在太陽電池絲網印刷電極制作中，通常采用鏈式燒結爐進行快速燒結；

???（9）電池片測試：測試的目的是對電池的輸出功率進行標定，測試其輸出特性，確定組件的質量等級。