[發(fā)明專利]基于多狹縫陣列的超分辨光譜儀有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310424250.3 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103471717A | 公開(公告)日: | 2013-12-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郝鵬;吳一輝;遲明波;劉永順 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類號(hào): | G01J3/36 | 分類號(hào): | G01J3/36;G01J3/04 |
| 代理公司: | 長春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210 | 代理人: | 王丹陽 |
| 地址: | 130033 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 狹縫 陣列 分辨 光譜儀 | ||
1.基于多狹縫陣列的超分辨光譜儀,其特征在于,由入射狹縫(1)、準(zhǔn)直鏡(2)、光柵(3)、聚焦鏡(4)、光電探測(cè)器(5)和與所述光電探測(cè)器(5)相連的計(jì)算機(jī)(6)組成;所述入射狹縫(1)為N階陣列狹縫,所述入射狹縫(1)對(duì)入射光線進(jìn)行空間濾波,使入射光線寬度按照光學(xué)系統(tǒng)要求的寬度入射到準(zhǔn)直鏡(2)上,光線依次經(jīng)過準(zhǔn)直鏡(2)準(zhǔn)直、光柵(3)分光、聚焦鏡(4)聚焦后成像在光電探測(cè)器(5)上,在垂直于光譜維方向上獲得N幅具有亞像元位移的低分辨率光譜圖,計(jì)算機(jī)(6)對(duì)光電探測(cè)器(5)采集的光譜圖信息進(jìn)行信息融合,利用遞推算法求取亞像元值從而構(gòu)建出一幅高分辨率的光譜圖,其中,所述N為正整數(shù)且N≥2。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于多狹縫陣列的超分辨光譜儀,其特征在于,所述入射狹縫(1)采用半導(dǎo)體硅材料或玻璃材料通過微機(jī)械工藝制作而成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于多狹縫陣列的超分辨光譜儀,其特征在于,所述光電探測(cè)器(5)采用面陣CCD、CMOS面陣成像探測(cè)器或InGaAs面陣成像探測(cè)器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于多狹縫陣列的超分辨光譜儀,其特征在于,所述光電探測(cè)器(5)上垂直于光譜維方向上的陣列數(shù)為N的整數(shù)倍,N為正整數(shù)且N≥2。
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