[發(fā)明專(zhuān)利]固著磨料拋光頭及其拋光方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310424237.8 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103465162A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-12-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 代雷;谷勇強(qiáng);張健;隋永新;楊懷江 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B24B41/04 | 分類(lèi)號(hào): | B24B41/04;B24B13/00 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)春菁華專(zhuān)利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210 | 代理人: | 王丹陽(yáng) |
| 地址: | 130033 吉*** | 國(guó)省代碼: | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 固著 磨料 拋光 及其 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光學(xué)加工技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種固著磨料拋光頭及其拋光方法。
背景技術(shù)
隨著對(duì)光學(xué)系統(tǒng)要求的提高,更好的成像質(zhì)量,更少的光學(xué)元件,更簡(jiǎn)化和輕量化的光學(xué)系統(tǒng)等成為未來(lái)的發(fā)展趨勢(shì),可以滿(mǎn)足上述要求的光學(xué)非球面元件也得到越來(lái)越廣泛的應(yīng)用。因此對(duì)光學(xué)非球面元件的加工制造也提出了更高的要求,提高光學(xué)非球面元件的加工效率,降低加工成本顯得尤為重要。
光學(xué)非球面元件制造工藝主要分為兩部分,一是非球面銑磨成型,二是非球面拋光平滑,得到滿(mǎn)足使用要求的面形。當(dāng)前廣泛采用的光學(xué)非球面拋光方法主要有機(jī)械小工具拋光技術(shù)、應(yīng)力盤(pán)拋光技術(shù)、磁流變拋光技術(shù)及離子束拋光技術(shù)等,其中機(jī)械小工具與應(yīng)力盤(pán)拋光技術(shù)是在傳統(tǒng)的游離磨料拋光技術(shù)與數(shù)控加工技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái),機(jī)械小工具拋光方法如柔性盤(pán)技術(shù),氣囊拋光技術(shù)等減少了對(duì)人工操作的依賴(lài),但拋光頭制作工藝復(fù)雜,去除函數(shù)穩(wěn)定性低,影響非球面拋光精度。目前還沒(méi)有采用固著磨料的拋光頭對(duì)光學(xué)非球面元件進(jìn)行拋光。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有的機(jī)械小工具拋光方法存在的拋光頭制作工藝復(fù)雜、拋光精度低的問(wèn)題,本發(fā)明提供一種固著磨料拋光頭及其應(yīng)用。
本發(fā)明為解決技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案如下:
固著磨料拋光頭,包括:成圓餅狀的固著磨料拋光頭基體,設(shè)置在所述固著磨料拋光頭基體中心的安裝孔,等間距均勻分布于所述固著磨料拋光頭基體邊緣表面并通過(guò)膠粘固定的固著磨料拋光墊層,膠粘固定在所述固著磨料拋光墊層表面的固著磨料拋光層。
所述固著磨料拋光層的個(gè)數(shù)與所述固著磨料拋光墊層的個(gè)數(shù)相等。
固著磨料拋光頭的拋光方法,該方法的條件和步驟如下:
測(cè)定光學(xué)非球面元件的初始面形誤差,規(guī)劃固著磨料拋光層與光學(xué)非球面元件的拋光接觸面積,確定進(jìn)給方式及進(jìn)給路徑,計(jì)算固著磨料拋光頭在不同位置的進(jìn)給速度,生成加工文件,對(duì)刀并調(diào)整冷卻水位置,保證拋光接觸區(qū)域充分冷卻,檢查各個(gè)環(huán)節(jié)開(kāi)始拋光,拋光過(guò)程中保持拋光接觸面積與壓入深度不變,并保證拋光接觸區(qū)域冷卻充分,拋光完成后,重新檢測(cè)光學(xué)非球面元件的面形,若面形精度滿(mǎn)足設(shè)計(jì)要求,則完成拋光;若面形精度不滿(mǎn)足設(shè)計(jì)要求,則利用光學(xué)非球面元件的初始面形誤差重新計(jì)算進(jìn)給速度并生成加工文件,再次進(jìn)行拋光加工,通過(guò)多次的檢測(cè)與反復(fù)迭代拋光,最終使光學(xué)非球面元件的面形精度滿(mǎn)足設(shè)計(jì)要求。
所述進(jìn)給方式為以螺旋線方式進(jìn)給。
所述進(jìn)給路徑為所述固著磨料拋光頭從光學(xué)非球面元件的最外層一圈開(kāi)始逐層遞進(jìn)拋光,直到光學(xué)非球面元件的最內(nèi)層一圈。
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的一種固著磨料拋光頭,該拋光頭制作工藝簡(jiǎn)單,使用時(shí)較為方便可靠;本發(fā)明采用固著磨料拋光頭對(duì)光學(xué)非球面元件進(jìn)行拋光,可以對(duì)不同形狀、口徑的光學(xué)非球面元件進(jìn)行有效拋光,快速形成可靠的拋光工藝,拋光過(guò)程中通過(guò)控制拋光接觸面積得到穩(wěn)定的去除函數(shù),有效地提高拋光效率與拋光精度,通過(guò)控制拋光頭在被加工光學(xué)非球面元件的不同位置的駐留時(shí)間實(shí)現(xiàn)不同程度的材料去除體積,配合反復(fù)迭代拋光,可實(shí)現(xiàn)對(duì)光學(xué)非球面元件表面面形誤差的精確修正,得到較好面形精度的光學(xué)非球面元件,使其滿(mǎn)足設(shè)計(jì)需要,該方法提高了加工效率并降低光學(xué)非球面元件的加工制造成本,同時(shí)實(shí)現(xiàn)較高的拋光精度。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明的固著磨料拋光頭的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為采用圖1所示的固著磨料拋光頭對(duì)光學(xué)非球面元件進(jìn)行拋光的原理示意圖;
圖3為采用圖1所示的固著磨料拋光頭對(duì)光學(xué)非球面元件進(jìn)行拋光時(shí)的進(jìn)給方式示意圖;
圖4為采用圖1所示的固著磨料拋光頭對(duì)光學(xué)非球面元件進(jìn)行拋光的流程示意圖。
圖中:1、固著磨料拋光頭,2、固著磨料拋光層,3、固著磨料拋光墊層,4、固著磨料拋光頭基體,5、安裝孔,6、光學(xué)非球面元件,7、拋光主軸。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
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