[發(fā)明專利]一種隔膜均勻性檢測(cè)方法及其檢測(cè)裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310422914.2
• 申請(qǐng)日: 2013-09-16
• 公開（公告）號(hào): CN103487381A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳信維
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 達(dá)尼特材料科技（蕪湖）有限公司
• 主分類號(hào): G01N21/25
• 分類號(hào): G01N21/25
• 代理公司: 蕪湖安匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34107
• 代理人: 張巧嬋

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及隔膜檢測(cè)領(lǐng)域，具體涉及一種隔膜均勻性檢測(cè)方法及其檢測(cè)裝置。

背景技術(shù)

干式隔離膜制作過程主要為薄膜押出、熱處理以及延伸造孔，進(jìn)行延伸造孔前的薄膜稱為前軀膜。前軀膜可以是押出膜、貼合膜、復(fù)合膜以及熱處理膜，前軀膜的膜均勻性對(duì)于之后延伸造孔后的均勻性有著非常直接的關(guān)系。此均勻性對(duì)隔膜厚度、內(nèi)應(yīng)力及微結(jié)構(gòu)等綜合特性均有影響，所以當(dāng)最前面制作過程能做到最佳控制時(shí)，后段制作過程的均勻性會(huì)相對(duì)的提升。

目前隔膜均勻性的檢測(cè)方式中都是以隔膜厚度作為主要的檢測(cè)對(duì)象，而測(cè)量厚度最常見的檢測(cè)方式有紅外線、X射線及β射線，但是以上這些測(cè)試方式都只能了解厚度的均勻性，并無法反應(yīng)出在加工過程造成材料的內(nèi)應(yīng)力與結(jié)構(gòu)的均勻性與分布；隔膜的延伸造孔與前軀膜的內(nèi)應(yīng)力和微結(jié)構(gòu)有強(qiáng)烈的關(guān)連性，這種測(cè)試方法無法保證隔膜成品率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種能夠檢測(cè)隔膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)均勻性，提高隔膜產(chǎn)品成品率的隔膜均勻性檢測(cè)方法及其檢測(cè)裝置。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為：

該隔膜均勻性檢測(cè)方法，在隔膜兩側(cè)各放置一偏光片；在其中一偏光片外側(cè)放置光源，光源發(fā)光經(jīng)該偏光片射入，照射隔膜后，再由另一偏光片射出；根據(jù)另一偏光片射出的光線色彩分布判定隔膜的均勻性。

所述偏光片射出的光線通過CCD圖像傳感器傳送給和CCD圖像傳感器連接的處理器，通過處理器分析判斷隔膜的均勻性。

所述偏光片光軸方向和所述隔膜表面夾角為45°±10°。

所述光源發(fā)出的可見光波長(zhǎng)為400～700nm。

所述隔膜為押出膜、貼合膜、復(fù)合膜或熱處理膜。

該隔膜均勻性檢測(cè)裝置，包括設(shè)在所述隔膜兩側(cè)的偏光片，在設(shè)于所述隔膜一側(cè)的偏光片外側(cè)設(shè)有光源。

在設(shè)于所述隔膜另一側(cè)的偏光片外側(cè)設(shè)有連接有處理器的CCD圖像傳感器。

所述偏光片光軸方向和所述隔膜表面夾角為45°±10°。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于：該隔膜均勻性檢測(cè)方法，在隔膜兩側(cè)設(shè)置偏光片，利用偏光片與測(cè)量物之間的光學(xué)特性使薄膜呈現(xiàn)不同的色彩變化，根據(jù)色彩變化判斷薄膜整體的厚度、應(yīng)力分布和材料結(jié)構(gòu)的均勻性。根據(jù)薄膜均勻性檢測(cè)結(jié)果，利用人工或自動(dòng)方式回饋調(diào)整薄膜制作過程與設(shè)備參數(shù)，以得到高均勻性的薄膜，使薄膜成品率得到提升與改善。該隔膜均勻性檢測(cè)裝置，用于薄膜均勻性檢測(cè)，能夠通過薄膜均勻性檢測(cè)結(jié)果，判斷薄膜內(nèi)部均勻性，以進(jìn)一步調(diào)整工藝，來提高薄膜成品率。

附圖說明

下面對(duì)本發(fā)明說明書各幅附圖表達(dá)的內(nèi)容及圖中的標(biāo)記作簡(jiǎn)要說明：

圖1為本發(fā)明隔膜均勻性檢測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為圖1隔膜均勻性檢測(cè)裝置的偏光片和隔膜之間的重疊結(jié)構(gòu)示意圖。

上述圖中的標(biāo)記均為：

1、隔膜，2、上偏光片，3、下偏光片，4、光源，5、CCD圖像傳感器。

具體實(shí)施方式

下面對(duì)照附圖，通過對(duì)最優(yōu)實(shí)施例的描述，對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。

如圖1和圖2所示，該隔膜均勻性檢測(cè)裝置，包括設(shè)在隔膜1兩側(cè)的偏光片，偏光片分為上偏光片2和下偏光片3，在設(shè)于隔膜1一側(cè)的偏光片（即下偏光片3）外側(cè)設(shè)有光源4。

在設(shè)于隔膜1另一側(cè)的偏光片（即上偏光片2）外側(cè)設(shè)有連接有處理器的CCD圖像傳感器5。處理器讀取CCD圖像傳感器5采集的色彩信息后，與內(nèi)部預(yù)先存儲(chǔ)的設(shè)定值進(jìn)行分析比較判斷，以確定隔膜均勻性程度。

偏光片光軸方向和隔膜1表面（薄膜1加工方向）夾角為45°±10°。

該隔膜均勻性檢測(cè)方法，利用隔膜均勻性檢測(cè)裝置來實(shí)現(xiàn)，在隔膜1兩側(cè)各放置一偏光片；偏光片分為上偏光片2和下偏光片3，在下偏光片3外側(cè)放置光源4，光源4發(fā)光經(jīng)該下偏光片3射入，照射隔膜1后，再由上偏光片2射出；根據(jù)上偏光片2射出的光線色彩分布判定隔膜的均勻性。

通過光線色彩分布判定隔膜1的均勻性，可通過人眼判斷，亦可經(jīng)過圖像處理裝置判斷。優(yōu)選偏光片射出的光線通過CCD圖像傳感器傳送給和CCD圖像傳感器連接的處理器，通過處理器分析判斷隔膜的均勻性。

優(yōu)選偏光片光軸方向和隔膜表面夾角為45°±10°。

光源4可為任何發(fā)光方式的光源發(fā)生器發(fā)出，光源4發(fā)出的可見光波長(zhǎng)為400～700nm。

隔膜1為前軀膜，隔膜1可為押出膜、貼合膜、復(fù)合膜或熱處理膜。