[發(fā)明專(zhuān)利]一種功率半導(dǎo)體器件及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310422706.2 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103489910A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-01-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張金平;顧鴻鳴;單亞?wèn)|;鄒有彪;劉競(jìng)秀;李澤宏;任敏;張波 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L29/739 | 分類(lèi)號(hào): | H01L29/739;H01L29/06;H01L21/331 |
| 代理公司: | 成都宏順專(zhuān)利代理事務(wù)所(普通合伙) 51227 | 代理人: | 李順德;王睿 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 功率 半導(dǎo)體器件 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及電子技術(shù),具體的說(shuō)是涉及一種電導(dǎo)調(diào)制型功率半導(dǎo)體器件及其制造方法。
背景技術(shù)
功率半導(dǎo)體器件在功率處理和功率變換等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用,在功率半導(dǎo)體器件的應(yīng)用中擊穿電壓是功率半導(dǎo)體器件最重要的特性之一。在實(shí)際的器件工藝中,由于雜質(zhì)在進(jìn)行縱向擴(kuò)散時(shí)也會(huì)橫向擴(kuò)散,因此實(shí)際形成的PN結(jié)的邊沿輪廓是彎曲的,存在結(jié)面彎曲效應(yīng),在反向工作時(shí)電場(chǎng)線(xiàn)會(huì)在結(jié)面彎曲處集中,使實(shí)際PN結(jié)的擊穿電壓遠(yuǎn)小于理想的平行平面結(jié)。此外,器件工藝過(guò)程中表面形成的氧化層中也存在一定數(shù)量的可動(dòng)離子和固定電荷,這些表面電荷對(duì)功率器件的耐壓也存在明顯的影響,過(guò)高的表面電場(chǎng)將導(dǎo)致器件表面提前擊穿。因此,為了降低功率半導(dǎo)體器件邊沿結(jié)面彎曲效應(yīng)和表面電荷對(duì)擊穿電壓的影響,需要在器件的邊沿采用終端結(jié)構(gòu)以改善功率半導(dǎo)體器件的擊穿電壓,常見(jiàn)的終端結(jié)構(gòu)有:場(chǎng)限環(huán)、場(chǎng)板、場(chǎng)限環(huán)和場(chǎng)板復(fù)合結(jié)構(gòu)等。功率半導(dǎo)體器件終端結(jié)構(gòu)的采用使器件的擊穿電壓得到了顯著的改善,使實(shí)際PN結(jié)的擊穿電壓接近理想平行平面結(jié)的擊穿電壓。但終端結(jié)構(gòu)的使用也使器件面臨終端失效的相關(guān)問(wèn)題,特別是隨著功率半導(dǎo)體器件向更大功率和更高頻率方向發(fā)展,與終端結(jié)構(gòu)相關(guān)的新的失效模式在應(yīng)用中顯現(xiàn)出來(lái),顯著的影響了大功率器件(特別是大功率電導(dǎo)調(diào)制型器件)的可靠性。
圖1是傳統(tǒng)的采用場(chǎng)限環(huán)和場(chǎng)板復(fù)合終端結(jié)構(gòu)的絕緣柵雙極型晶體管(IGBT)結(jié)構(gòu)。隨著器件向更大功率和更高頻率方向發(fā)展,該結(jié)構(gòu)在關(guān)斷過(guò)程中面臨著嚴(yán)重的終端等位環(huán)處電流輸運(yùn)集中引起的失效問(wèn)題,具體失效機(jī)理為:在IGBT正向?qū)〞r(shí),正的柵壓使MOS溝道開(kāi)啟,在集電極(陽(yáng)極)正電壓的作用下,大量的空穴從陽(yáng)極注入漂移區(qū)并與從MOS溝道進(jìn)入漂移區(qū)中的電子形成電導(dǎo)調(diào)制,使得IGBT具有正向?qū)▔航敌?、損耗低的優(yōu)點(diǎn)。然而,在IGBT反向關(guān)斷時(shí),由于IGBT負(fù)載一般是電感,負(fù)載電感電流不能突變,因而流過(guò)IGBT的電流不能突變,因此在關(guān)斷過(guò)程中所有流過(guò)IGBT的電流必須由陽(yáng)極注入漂移區(qū)的空穴電流提供。然而,對(duì)于大面積的場(chǎng)限環(huán)和場(chǎng)板復(fù)合終端區(qū)域,大量從陽(yáng)極注入的空穴不能經(jīng)過(guò)浮空的場(chǎng)限環(huán)流出,而是通過(guò)終端與元胞交界的終端等位環(huán)處流出,因而會(huì)在終端等位環(huán)處形成電流輸運(yùn)集中現(xiàn)象。在終端等位環(huán)處的電流輸運(yùn)集中會(huì)引起局部溫度的快速升高,從而引起動(dòng)態(tài)雪崩效應(yīng)和熱擊穿,導(dǎo)致器件燒毀失效,器件的關(guān)斷可靠性大大降低。針對(duì)上述問(wèn)題,本發(fā)明以降低等位環(huán)處電流集中效應(yīng)為目的,提出了一種功率半導(dǎo)體器件的終端結(jié)構(gòu)及其制作方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的,就是針對(duì)上述問(wèn)題,提出一種功率半導(dǎo)體器件及其制造方法。
本發(fā)明解決上述技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:一種功率半導(dǎo)體器件,包括有源區(qū)和終端結(jié)構(gòu),所述終端結(jié)構(gòu)包括N-漂移區(qū)9、N型緩沖層10、p型集電區(qū)11、金屬集電極3、P型等位環(huán)6、P型場(chǎng)限環(huán)7和N型截止環(huán)8;其中N型緩沖層10位于N-漂移區(qū)9和p型集電區(qū)11之間,p型集電區(qū)11位于N型緩沖層10和金屬集電極3之間;所述P型等位環(huán)6位于靠近有源區(qū)的N-漂移區(qū)9中,P型等位環(huán)6與有源區(qū)金屬發(fā)射極等電位連接;所述N型截止環(huán)8位于遠(yuǎn)離有源區(qū)的N-漂移區(qū)9中;P型等位環(huán)6和N型截止環(huán)8之間的N-漂移區(qū)9中具有若干P型場(chǎng)限環(huán)7;P型等位環(huán)6、P型場(chǎng)限環(huán)7、N型截止環(huán)8和N-漂移區(qū)9的表面具有場(chǎng)氧化層13,場(chǎng)氧化層13表面與P型等位環(huán)6、P型場(chǎng)限環(huán)7和N型截止環(huán)8對(duì)應(yīng)的位置處分別具有金屬場(chǎng)板12;其特征在于,還包括氧化層14,所述氧化層14設(shè)置在n型緩沖層10和p型集電區(qū)11之間,將n型緩沖層10與p型集電區(qū)11完全隔離。
具體的,所述氧化層14與功率半導(dǎo)體器件的邊沿不接觸。
具體的,所述有源區(qū)包括發(fā)射極和柵極結(jié)構(gòu),所述柵極結(jié)構(gòu)為溝槽柵結(jié)構(gòu)、平面柵結(jié)構(gòu)和具有載流子存貯層的平面柵結(jié)構(gòu)中的一種結(jié)構(gòu)構(gòu)成。
進(jìn)一步的,有源結(jié)構(gòu)為溝槽柵結(jié)構(gòu),包括金屬發(fā)射極1和柵極2,所述金屬發(fā)射極1和柵極2均為多個(gè),金屬發(fā)射極1和柵極2間隔交替設(shè)置在n-漂移區(qū)9的上表面且第一個(gè)和最后一個(gè)均為金屬發(fā)射極1,其中,第一個(gè)金屬發(fā)射極1位于n-漂移區(qū)9上表面的端部,金屬發(fā)射極1和柵極2之間通過(guò)場(chǎng)氧化層13隔離,每個(gè)柵極2的下表面均連接1個(gè)槽型柵極15,所述槽型柵極15位于n-漂移區(qū)9中,在n-漂移區(qū)9的上層端部還設(shè)置有P型體區(qū)5,所述P型體區(qū)5的上表面與金屬發(fā)射極1的下表面和氧化層13的下表面連接,并被多個(gè)槽型柵極15分為多個(gè)部分,槽型柵極15的深度大于P型體區(qū)5的深度,在P型體區(qū)5中的槽型柵極15的側(cè)面均設(shè)置有n型源區(qū)4,n型源區(qū)4的上表面與金屬發(fā)射極1的下表面和氧化層13的下表面連接。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專(zhuān)門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類(lèi)型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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