[發明專利]一種極紫外光刻機光源中液滴靶空間位置的監控系統無效
| 申請號: | 201310419936.3 | 申請日: | 2013-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN103513519A | 公開(公告)日: | 2014-01-15 |
| 發明(設計)人: | 徐勇躍;王新兵;左都羅;盧宏;陸培祥 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司: | 華中科技大學專利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 紫外 光刻 光源 中液滴靶 空間 位置 監控 系統 | ||
1.?一種極紫外光刻機光源中液滴靶空間位置的監控系統,其特征在于,它包括第一探測光源(21)、第一四象限光電探測器(22)、第二探測光源(23)、第二四象限光電探測器(24)、信號處理器(25)、信號控制器(26)和二維電位移臺(27);
二維電位移臺(27)用于放置噴嘴(11),設液滴噴嘴(11)噴射方向為Z軸,第一探測光源(21)和第一四象限光電探測器(22)配合用于檢測X方向的偏移,第二探測光源(23)和第二四象限光電探測器(24)配合用于檢測Y方向的偏移;
第一四象限光電探測器(22)和第二四象限光電探測器(24)分別與信號處理器(25)電連接,信號處理器(25)將四象限光電探測器的輸出信號進行處理后反饋給信號控制器(26)用于對二維電位移臺(27)進行控制調節,以控制液滴噴嘴(11)位置,保證液滴沿激光脈沖的焦斑中心方向噴射。
2.根據權利要求1所述的一種極紫外光刻機光源中液滴靶空間位置的監控系統,其特征在于,
所述第一探測光源(21)發出光束的方向與液滴(12)噴射的方向垂直,第一探測光源(21)的光軸與第一四象限光電探測器(22)的光敏面垂直,其發射的光束垂直投射在第一四象限光電探測器(22)的光敏面上,使第一四象限光電探測器(22)的四個象限的輸出大小相等;?
第二探測光源(23)光束的方向與液滴(12)的噴射方向垂直,且與第二探測光源(23)光束的方向垂直,第二探測光源(23)的光軸與第二四象限光電探測器(24)的光敏面垂直,使第二四象限光電探測器(24)的四個象限輸出大小相等;第一探測光源(21)和第二探測光源(23)的光軸保持在同一個平面內。
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