[發明專利]一種二氧化硅介電材料用化學機械拋光液及其制備方法

有效

• 申請號: 201310419636.5
• 申請日: 2013-09-13
• 公開（公告）號: CN103484024A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發明（設計）人: 梁晨亮;王良詠;宋志棠;劉衛麗;秦飛
• 申請（專利權）人: 上海新安納電子科技有限公司;中國科學院上海微系統與信息技術研究所
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 上海光華專利事務所 31219
• 代理人: 梁海蓮

1.一種二氧化硅介電材料用化學機械拋光液，以所述化學機械拋光液的總重量為基準計，

包含以下重量百分比的組分：

氧化物拋光顆粒????1-50wt%；

余量為pH調節劑和水性介質。

2.如權利要求1所述的一種二氧化硅介電材料用化學機械拋光液，其特征在于，以所述化學機械拋光液的總重量為基準計，包含以下重量百分比的組分：

氧化物拋光顆粒????5-30wt%；

余量為pH調節劑和水性介質。

3.如權利要求1或2所述的一種二氧化硅介電材料用化學機械拋光液，其特征在于，所述二氧化硅介電材料用化學機械拋光液的pH值為3-5。

4.如權利要求1或2所述的一種二氧化硅介電材料用化學機械拋光液，其特征在于，所述二氧化硅介電材料用化學機械拋光液的pH值為10-11。

5.如權利要求1或2所述的一種二氧化硅介電材料用化學機械拋光液，其特征在于，所述氧化物拋光顆粒選自膠體二氧化硅，粒徑為10-1500nm。

6.如權利要求1或2所述的一種二氧化硅介電材料用化學機械拋光液，其特征在于，所述pH調節劑選自硝酸、硫酸、磷酸、氫氧化鉀、羥乙基乙二氨、四甲基氫氧化氨和氨水。

7.如權利要求1或2所述的一種二氧化硅介電材料用化學機械拋光液，其特征在于，所述水性介質為去離子水。

8.如權利要求5所述的一種二氧化硅介電材料用化學機械拋光液的制備方法，包括以下步驟：

（1）配制pH值為7-11的硅酸水溶液；

（2）取步驟（1）制得的硅酸水溶液加熱至沸，保持沸騰15-60min；

（3）迅速導入冷卻容器中，3分鐘內迅速降至20～50℃；

（4）重新加熱至沸，然后持續滴加步驟（1）制得的硅酸水溶液，制得膠體二氧化硅溶液，并同時控制膠體二氧化硅溶液的pH為7.5～9.5；

（5）將所述膠體二氧化硅溶液經過濾、濃縮制得固含量為30～50wt%的硅溶膠，置于陰涼處備用；

（6）取步驟（5）制得的硅溶膠，加水性介質稀釋并用pH調節劑調節酸堿性即制得所述的二氧化硅介電材料用化學機械拋光液。

9.如權利要求8所述的一種二氧化硅介電材料用化學機械拋光液的制備方法，步驟（1）中，

所述硅酸水溶液的濃度（以二氧化硅計）為2～8wt%。

10.如權利要求8所述的一種二氧化硅介電材料用化學機械拋光液的制備方法，步驟（5）中，所述持續滴加的硅酸水溶液的體積為原沸騰硅酸水溶液體積的4～10倍。