[發明專利]用于沉浸式光刻光學系統的清洗方法

有效

• 申請號: 201310419409.2
• 申請日: 2004-04-02
• 公開（公告）號: CN103558736A
• 公開（公告）日: 2014-02-05
• 發明（設計）人: 安德魯·J·黑茲爾頓;川井秀實;道格拉斯·C·沃特森;托馬斯·W·諾萬克
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 秦晨

1.一種用于沉浸式光刻裝置的清洗方法，其中在沉浸式光刻處理期間，用于光刻的工件位于臺上，具有光學元件的投影光學系統在所述工件的上方并與之相對，在所述光學元件與所述工件之間提供間隙，所述方法包括如下步驟：

在清洗處理期間將清洗器件置于所述臺上；以及

在所述清洗處理期間在所述光學元件與于所述臺上的所述清洗器件之間供應液體，所述光學元件在所述清洗處理期間與所供應的液體接觸。

2.根據權利要求1的清洗方法，其中所述清洗處理在所述沉浸式光刻處理之后進行。

3.根據權利要求1的清洗方法，其中在所述清洗處理期間所供應的所述液體是水。

4.根據權利要求1的清洗方法，其中所述液體的供應與所供應的液體的收集在所述清洗處理期間繼續進行。

5.一種沉浸式光刻裝置，其中，在沉浸式光刻處理期間，在光學元件與用于光刻的工件之間提供間隙，所述沉浸式光刻裝置包括：

臺，用于光刻的所述工件在所述沉浸式光刻處理期間保持于其上，并且清洗器件在清洗處理期間置于其上；

具有所述光學元件的投影光學系統，其在所述沉浸式光刻處理期間是在所述工件的上方并與之相對；以及

噴嘴，被設置為在所述沉浸式光刻處理期間向在所述光學元件與于所述臺上的所述工件之間的所述間隙供應沉浸液體，并且被設置為在所述清洗處理期間向所述光學元件與于所述臺上的所述清洗器件之間的間隙供應液體，所述光學組件在所述清洗處理期間與所供應的液體接觸。

6.根據權利要求5的裝置，其中所述清洗處理在所述沉浸式光刻處理之后進行。

7.根據權利要求5的裝置，其中在所述清洗處理期間所供應的所述液體是水。

8.根據權利要求5的裝置，其中所述液體的供應與所供應的液體的收集在所述清洗處理期間繼續進行。

9.一種器件制造方法，包括：

通過權利要求5-8中任一項的裝置曝光晶片；以及

顯影所曝光的晶片。

10.一種用于沉浸式光刻裝置的清洗方法，所述方法包括：

在清洗處理期間將投影光學系統的光學元件浸沒在一種液體中；以及

在所述清洗處理期間將光執行施加于所述光學元件。

11.根據權利要求10的清洗方法，其中所述光是紫外光。

12.根據權利要求11的清洗方法，其中所述光是曝光光線。