[發明專利]涂層導體Ni-5at.%W合金基帶的電化學拋光方法

有效

• 申請號: 201310419407.3
• 申請日: 2013-09-13
• 公開（公告）號: CN103436947A
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發明（設計）人: 彭東輝;朱海;韓婕;吳向陽;徐靜安;李志剛;韓坤
• 申請（專利權）人: 上海化工研究院
• 主分類號: C25F3/22
• 分類號: C25F3/22
• 代理公司: 上海科盛知識產權代理有限公司 31225
• 代理人: 林君如

1.涂層導體Ni-5at.％W合金基帶的電化學拋光方法，其特征在于，該方法以Ni-5at.％W合金基帶作為陽極，以純鎳片作為陰極，將Ni-5at.％W合金基帶在靜態下浸漬于電解拋光液中，開啟電源對Ni-5at.％W合金基帶進行拋光處理，拋光處理后的合金基帶再經去離子水反復沖洗，并用無水乙醇脫水、風機吹干即可，

所述的電解拋光液為磷酸、硫酸、乙二醇按體積比為2-4∶3-5∶2-3混合而成的電解拋光液。

2.根據權利要求1所述的涂層導體Ni-5at.％W合金基帶的電化學拋光方法，其特征在于，所述的磷酸為質量百分濃度為83-85％的磷酸溶液，所述的硫酸為質量百分濃度為95-98％的硫酸溶液。

3.根據權利要求1所述的涂層導體Ni-5at.％W合金基帶的電化學拋光方法，其特征在于，所述的Ni-5at.％W合金基帶在浸漬之前，表面需用丙酮進行脫脂處理，再用水基凈洗劑在超聲波中凈洗1-5min，然后用去離子水反復沖洗，無水乙醇脫水，風機吹干。

4.根據權利要求3所述的涂層導體Ni-5at.％W合金基帶的電化學拋光方法，其特征在于，所述的水基凈洗劑的濃度為5-10wt％，采用的溶質為聚氧乙烯月桂醇醚、聚氧乙烯烷基酚醚、十二酸二乙醇酰胺、碳酸鈉、磷酸鈉、硅酸鈉的多組元混合物。

5.根據權利要求1所述的涂層導體Ni-5at.％W合金基帶的電化學拋光方法，其特征在于，拋光處理時控制拋光電流密度為0.7～1.2A.cm^-2。

6.根據權利要求1所述的涂層導體Ni-5at.％W合金基帶的電化學拋光方法，其特征在于，拋光處理時控制拋光時間為20～120s。

7.根據權利要求1所述的涂層導體Ni-5at.％W合金基帶的電化學拋光方法，其特征在于，拋光處理時控制拋光溫度為25～55℃。

8.根據權利要求1所述的涂層導體Ni-5at.％W合金基帶的電化學拋光方法，其特征在于，拋光處理時控制陽極與陰極之間的間距為10～20mm。

9.根據權利要求1所述的涂層導體Ni-5at.％W合金基帶的電化學拋光方法，其特征在于，拋光處理時控制陽極與陰極的面積比為1∶3-5。