[發明專利]一種圓盤式無針頭靜電紡絲裝置有效
| 申請號: | 201310414922.2 | 申請日: | 2013-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN103484953A | 公開(公告)日: | 2014-01-01 |
| 發明(設計)人: | 劉延波;漆東岳;李輝;陳威亞 | 申請(專利權)人: | 天津工業大學 |
| 主分類號: | D01D5/00 | 分類號: | D01D5/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 300160*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 圓盤 針頭 靜電 紡絲 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及靜電紡絲技術,具體為一種圓盤式無針頭靜電紡絲裝置。
技術背景
靜電紡絲是利用靜電場力對紡絲射流進行牽伸,形成納米纖維非織造布的一種方法;該技術作為最為常用的一種納米纖維生產方法,近年來得到了廣泛的研究,它具有成本低、簡單、且適用于大部分聚合物等優勢。其產品細度介于納米和微米之間的纖維,并以無序狀沉積在接收裝置上,形成類似非織造布狀的微納米纖維網/薄膜,可用于過濾材料、生物醫學材料、化學傳感器、電池隔膜的多個高科技領域。
靜電紡絲技術作為目前連續制備聚合物納米纖維的最有效的方法,具有諸多優勢,但較難實現規模化生產。目前規模化靜電紡絲技術分為兩類,一類為多針頭靜電紡絲技術,代表公司為以德國的Freudenburg?Nonwovens、美國的Finetex?Technology?Inc.、eSpin?Technologies、NanoMatrix、韓國的TOPTECH公司等;另一類為無針頭靜電紡絲技術,代表公司為美國的Donaldson?Company和捷克的Elmarco公司(納米蜘蛛)。現有多針頭靜電紡絲設備存在針頭易堵、低效低產、多射流間電場干擾嚴重(End?effect現象)、電紡膜橫向厚薄不勻等的問題;現有無針頭靜電紡絲設備(納米蜘蛛)雖然不存在傳統靜電紡的針頭堵塞問題,產量比針頭式靜電紡裝置提高了很多,但是存在所得纖維粗細不勻、纖維偏粗、耗能大、產品質量難以控制等問題。
發明內容
針對現有靜電紡絲規模化設備存在的不足,本發明擬采用的技術方案是:設計一種圓盤式無針頭靜電紡絲裝置。該裝置包括一個內壁式溶液池,具有節省電能與防止漏電的作用;采用圓盤式紡絲頭,具有均勻混合紡絲溶液、控制纖維細度的作用;還包括內置導線的高性能塑料轉軸,可對各紡絲圓盤分別施加電壓,并節省電能、減小電場干擾;該裝置特別設計了圓弧形屏蔽罩,可控制紡絲位置的溶液厚度,使納米纖維細度均勻,并節省電能。
本發明解決靜電紡絲設備規模化的技術方案是:設計一種圓盤式無針頭規模化靜電紡絲納米纖維無紡布生產設備,該設備主要包括:溶液池55、高性能塑料轉軸85、紡絲圓盤80、屏蔽罩75、高壓電源10、輸網簾15、接地目標電極板40、吸風裝置35、傳動裝置25、防滑移裝置50等。
所述溶液池55內壁層由高性能塑料組成,具有節省電能與防止漏電的作用;溶液池55采用圓弧狀設計,內直徑稍大于紡絲圓盤80的直徑,具有節省原料和均勻溶液的作用;可根據設備的產量,對注入泵120和回流泵125之間的差額進行控制,可以精確控制溶液池中的溶液含量,并使溶液隨之流動,防止聚合物沉積。
所述高性能塑料轉軸采用聚四氟乙烯、聚苯硫醚或聚丙烯塑料中軸85,在中軸上布有用于給各轉盤施加不同電壓的導線95,導線由高性能塑料管包覆,可以起到節省電力并防止漏電危險的作用,同時可通過導線對圓盤施加不同電壓,使各圓盤紡絲點的電場分布均勻,起到減小靜電排斥、均勻纖維細度的作用;中軸上有間隔5mm~100mm的基座140,可固定圓盤并與所布導線相連,可根據實際生產需要用來調節圓盤間距。
所述紡絲圓盤80采用空心設計,形狀可變,形狀參數包括圓盤邊緣的傾斜程度、直徑、方向、數量等。紡絲圓盤80與基座140之間采用四個對稱分布的螺釘固定(參見附圖2);圓盤80傾斜程度在0°~90°之間,厚度在0.5mm~10mm之間,其本身具有的傾斜程度使圓盤具有一定的儲液能力。在低轉速轉動時,由于圓盤80傾斜面的存在,可實現連續紡絲;各圓盤的直徑可根據電場分布規律在100mm~200mm之間進行調節。根據電場分布原理,位于轉軸85中間位置的圓盤直徑較兩邊的要大,這樣的圓盤直徑分布可以控制各圓盤紡絲位置之間電場的均勻性,并起到均勻紡絲射流的作用;圓盤的排布可以是單個圓盤沿轉軸進行單向平行配置、均勻排布,也可以是底面相向成對配置(參見附圖3),并沿轉軸均勻排布。圓盤的排布方式取決于紡絲溶液的粘度;紡絲圓盤的數量和間隔根據產品幅寬和克重要求而改變。
所述屏蔽罩75采用聚四氟乙烯內壁,采用圓弧形設計(參見附圖1),在屏蔽罩與溶液池之間設計有控高裝置70,可通過控制圓盤紡絲位置高度來控制圓盤的帶液量,使各紡絲圓盤紡絲位置的溶液厚度均勻一致(一般控制帶液厚度為0.1mm~0.5mm),從而使所紡纖維細度均勻、電紡膜厚度均勻;屏蔽罩75同時可使電紡絲核心部件處于相對屏蔽的狀態,這樣可以節省電能、均勻射流、并使高電壓集中于圓盤的頂部紡絲位置。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于天津工業大學,未經天津工業大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310414922.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





