[發(fā)明專利]一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310413206.2
• 申請(qǐng)日: 2013-09-12
• 公開（公告）號(hào): CN103451615A
• 公開（公告）日: 2013-12-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 關(guān)秉羽
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 遼寧北宇真空科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/56
• 分類號(hào): C23C14/56
• 代理公司: 鐵嶺天工專利商標(biāo)事務(wù)所 21105
• 代理人: 靳萬清

1.一種制備薄膜式電容負(fù)極碳箔的連續(xù)卷繞真空離子鍍膜機(jī)，具有鍍膜機(jī)箱體，鍍膜機(jī)箱體內(nèi)依次間隔設(shè)有放卷室（1）、過渡室（2）、鍍膜室（3）和收卷室（4），所述放卷室（1）內(nèi)設(shè)有放卷輪盤（11），所述過渡室（2）內(nèi)設(shè)有基膜傳送導(dǎo)輥（21），所述收卷室（4）內(nèi)設(shè)有收卷輪盤（41）和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述鍍膜室（3）的箱體頂壁和底壁上分別設(shè)有磁控靶，其特征在于：所述過渡室（2）和鍍膜室（3）的數(shù)量為多個(gè)，交錯(cuò)設(shè)置在所述放卷室（1）和收卷室（4）之間；所述鍍膜室（3）的箱體頂壁和底壁上設(shè)置的磁控靶分別為鉻材料磁控靶（31）和石墨材料磁控靶（32）。

2.按照權(quán)利要求1所述的卷繞式連續(xù)真空鍍膜機(jī)，其特征在于：位于所述放卷室（1）和收卷室（4）之間大致中間位置的過渡室（2）內(nèi)還設(shè)有基膜行進(jìn)糾偏裝置（200），該糾偏裝置（200）包括糾偏輥（201）和糾偏輥?zhàn)凰黾m偏輥（201）為傾角可調(diào)式糾偏輥，其包括一個(gè)固定端（202）和一個(gè)升降端（203），固定端軸（211）通過角接觸球軸承（204）固定在糾偏輥?zhàn)刀耍?03）設(shè)有升降滑套（205），在升降端（203）的糾偏輥?zhàn)显O(shè)有與升降滑套（205）相配合的升降導(dǎo)軌，所述升降滑套（205）為槽輪形滑套，槽輪形滑套通過調(diào)心軸承固定在糾偏輥軸（206）上，所述升降導(dǎo)軌為垂直于糾偏輥?zhàn)纤矫娴膬啥ㄎ话澹?07），兩定位板（207）之間構(gòu)成升降滑套滑道；在升降端（203）的糾偏輥?zhàn)线€設(shè)有糾偏輥升降機(jī)構(gòu)，該糾偏輥升降機(jī)構(gòu)包括升降連桿（208），升降連桿（208）一端通過軸承與糾偏輥軸（206）連接，另一端通過軸承與升降驅(qū)動(dòng)軸（209）端的偏心軸（210）連接，升降驅(qū)動(dòng)軸（209）接糾偏驅(qū)動(dòng)電機(jī)。

3.按照權(quán)利要求1或2所述的卷繞式連續(xù)真空鍍膜機(jī)，其特征在于：所述糾偏輥（201）的兩側(cè)設(shè)有基膜位置傳感器探頭，傳感器探頭信號(hào)輸出端接糾偏驅(qū)動(dòng)電機(jī)控制器。

4.按照權(quán)利要求1或2所述的卷繞式連續(xù)真空鍍膜機(jī)，其特征在于：所述放卷輪盤（11）連有放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)均為變頻調(diào)速電機(jī)；鄰近所述放卷室（1）的過渡室（2）內(nèi)還設(shè)有基膜行進(jìn)速度主動(dòng)控制壓輥（22），在壓輥（22）上設(shè)有速度傳感器，速度傳感器信號(hào)輸出端接所述放卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)變頻控制器（12）和收卷輪盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)變頻控制器（42）。

5.按照權(quán)利要求1或2所述的卷繞式連續(xù)真空鍍膜機(jī)，其特征在于：所述放卷室（1）和鄰近所述收卷室（4）的過渡室（3）內(nèi)還設(shè)有基膜張力緩沖裝置，該基膜張力緩沖裝置由繞擺軸（13）轉(zhuǎn)動(dòng)的緩沖擺桿（14）和緩沖擺桿復(fù)位裝置構(gòu)成，在擺桿上設(shè)有基膜張力緩沖導(dǎo)輥（15）。