[發(fā)明專利]一種用于鐳射證卡的鐳射涂層及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310413100.2
• 申請日: 2013-09-12
• 公開（公告）號(hào): CN103497667A
• 公開（公告）日: 2014-01-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 呂拴力;馮琦;黃彥旭;李華
• 申請（專利權(quán)）人: 天津馮德亦康新材料科技有限公司
• 主分類號(hào): C09D175/14
• 分類號(hào): C09D175/14;C08G18/67;C08G18/66;C08G18/12;B05D7/24;B41M1/12;G06K19/02
• 代理公司: 天津盛理知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 12209
• 代理人: 王來佳

1.一種用于鐳射證卡的鐳射涂層，其特征在于：所述鐳射涂層所需的各原料組分及重量份數(shù)分別為：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于鐳射證卡的鐳射涂層，其特征在于：所述二官能團(tuán)異氰酸酯為異佛爾酮二異氰酸酯或六次甲基二異氰酸酯。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于鐳射證卡的鐳射涂層，其特征在于：所述大分子二元醇任選自分子量為4000～7000的聚1，6-己二酸-1，4-丁二醇酯二元醇、數(shù)均分子量為4000～7000的聚己內(nèi)酯二元醇、數(shù)均分子量為4000～7000的聚1，6-己二醇酯二元醇中的一種或幾種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于鐳射證卡的鐳射涂層，其特征在于：所述擴(kuò)鏈劑為二羥甲基丙酸或二羥甲基丁酸。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于鐳射證卡的鐳射涂層，其特征在于：所述溶劑為丁酮、乙酸乙酯或碳酸二甲酯。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于鐳射證卡的鐳射涂層，其特征在于：所述中和劑為三乙胺或氨基磺酸。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于鐳射證卡的鐳射涂層，其特征在于：所述催化劑為二月桂酸二丁基錫或三乙醇胺。

8.一種制備如權(quán)利要求1所述的用于證卡的鐳射涂層的方法，其特征在于：所述鐳射涂層的制備方法步驟是：

⑴將三官能團(tuán)異氰酸酯、二官能團(tuán)異氰酸酯、大分子二元醇、擴(kuò)鏈劑、溶劑和催化劑加入至裝有溫度計(jì)、攪拌器和回流冷凝器的反應(yīng)容器中，混合均勻，在惰性氣體環(huán)境下控溫70～85℃，反應(yīng)2～4小時(shí)；

⑵向反應(yīng)容器加入甲基丙烯酸羥乙酯和丙烯酸-2羥基丙酯，控溫65～80℃，反應(yīng)1～3小時(shí)，然后降溫到20～50℃，加入中和劑，反應(yīng)10～30分鐘，得到預(yù)聚體；

⑶將預(yù)聚體倒入去離子水中進(jìn)行乳化分散，然后減壓蒸餾除去溶劑后，即得到證卡用鐳射保護(hù)膜涂層。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～7任一權(quán)利要求所述的用于鐳射證卡的鐳射涂層，其特征在于：將所述鐳射涂層局部或全部涂覆在基材上即得鐳射保護(hù)膜，所述鐳射保護(hù)膜的制備方法步驟為：⑴采用網(wǎng)紋涂布工藝將鐳射涂層涂布到基材上，涂布厚度為0.01～0.02mm，在50～70℃的溫度下烘干，烘干時(shí)間為50～80秒，收卷；

⑵然后用模壓機(jī)在鐳射涂層上進(jìn)行局部或滿版模壓鐳射圖案，模壓溫度150～170℃，時(shí)間為0.5～1.5秒，即得具有鐳射圖案的證卡保護(hù)膜。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的用于鐳射證卡的鐳射涂層，其特征在于：所述基材是由聚氯乙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或聚對苯二甲酸乙二醇酯-1,4-環(huán)己烷二甲醇酯制備而成。1、一種磁條保護(hù)膜卷材，由基材和磁條組成，其特征在于：所述基材為卷狀，在基材外表面徑向間隔裱合多個(gè)磁條，每個(gè)磁條長度與基材長度相同，所述基材寬度為210mm，所述基材厚度為100μm。