[發(fā)明專利]顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310412653.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104062810A | 公開(公告)日: | 2014-09-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李相明;禹修完;金暲鎰;金曬玹;樸載華;樸帝亨;宋榮九;鄭形基;洪基表;皇甫尚佑 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1337 | 分類號(hào): | G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 王占杰;魯恭誠(chéng) |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 | ||
本專利申請(qǐng)要求于2013年3月22日在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2013-0031091號(hào)韓國(guó)專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)和由此產(chǎn)生的所有權(quán)益,通過引用將該韓國(guó)專利申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容包含于此。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開的實(shí)施例涉及一種顯示裝置。更具體地,本公開的實(shí)施例涉及具有改善的顯示質(zhì)量的顯示裝置。
背景技術(shù)
通常,液晶顯示器包括兩個(gè)透明基底和設(shè)置在兩個(gè)基底之間的液晶層。液晶顯示器驅(qū)動(dòng)液晶層的液晶分子以控制通過每個(gè)像素的光的透過率,以顯示期望的圖像。
液晶顯示器包括取向?qū)右允挂壕拥囊壕Х肿映跏既∠颉H∠驅(qū)釉O(shè)置在每個(gè)基底的表面上。當(dāng)取向?qū)釉诨妆砻嫔媳贿^量涂覆或者未充分涂覆時(shí),兩個(gè)基底不適當(dāng)?shù)乇舜苏辰Y(jié)并且可能在圖像上產(chǎn)生瑕疵。
發(fā)明內(nèi)容
本公開的實(shí)施例提供了一種能防止取向缺陷發(fā)生的顯示面板。
本公開的實(shí)施例提供一種制造顯示面板的方法。
本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例提供了一種顯示裝置,所述顯示裝置包括:顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域;第一取向?qū)樱O(shè)置在第一基底上;第二取向?qū)樱O(shè)置在第二基底上;以及液晶層,設(shè)置在第一取向?qū)雍偷诙∠驅(qū)又g。溝槽設(shè)置在第二基底的非顯示區(qū)域中,以對(duì)應(yīng)于第二取向?qū)拥亩瞬康闹辽僖徊糠帧喜郾粯?gòu)造為由用于形成第二取向?qū)拥娜∠蛉芤禾畛洳⑶曳乐谷∠蛉芤悍稚⒌降诙椎钠渌麉^(qū)域。
第一基底包括第一基體基底和設(shè)置在第一基體基底上的像素電極,第二基體基底包括第二基體基底和設(shè)置在第二基體基底上的共電極。溝槽設(shè)置在第二基體基底中。
顯示裝置還可以包括設(shè)置在第二基體基底和共電極之間的覆層,溝槽設(shè)置在覆層中。
溝槽沿著顯示區(qū)域的至少一個(gè)邊設(shè)置。
可以設(shè)置多個(gè)隔開的溝槽。
顯示裝置還可以包括:阻擋壩,設(shè)置在第一基底的非顯示區(qū)域中,阻擋壩在與第一取向?qū)拥亩瞬肯鄬?duì)應(yīng)的區(qū)域中從第一基底突出;濾色器,設(shè)置在第一基體基底和像素電極之間;以及黑色矩陣,設(shè)置在第一基底上且在濾色器之間。阻擋壩由與黑色矩陣相同的材料形成。
根據(jù)以上所述,可以防止在顯示裝置上發(fā)生由取向?qū)雍兔芊獠考鸬娜毕荨4送猓梢院?jiǎn)化顯示面板的制造工藝。
附圖說明
圖1是根據(jù)本公開的示例性實(shí)施例的顯示裝置的平面圖。
圖2是圖1中示出的顯示裝置的一個(gè)像素的平面圖。
圖3是沿著圖2的I-I'線截取的剖視圖。
圖4是圖2中示出的像素的等效電路圖。
圖5是沿著圖1的P1-P2線截取的剖視圖。
圖6是沿著圖1的P3-P4線截取的剖視圖。
圖7A至7D是圖1的P5區(qū)域中的溝槽的各種示例的平面圖。
圖8是根據(jù)本公開的示例性實(shí)施例的顯示面板的制造方法的流程圖。
圖9A至圖9C是根據(jù)本公開的示例性實(shí)施例的形成第二基底和第二取向?qū)拥墓に嚨钠室晥D。
圖10A至圖10C是根據(jù)本公開的另一個(gè)示例性實(shí)施例的形成第二基底和第二取向?qū)拥墓に嚨钠室晥D。
圖11A和圖11B分別是根據(jù)本公開的示例性實(shí)施例的溝槽的寬度和深度作為激光束的能量強(qiáng)度的函數(shù)的曲線圖。
圖12是沿圖1的P1-P2線截取的根據(jù)本公開的另一個(gè)示例性實(shí)施例的顯示面板的剖視圖。
圖13是沿圖1的P3-P4線截取的根據(jù)本公開的另一個(gè)示例性實(shí)施例的顯示面板的剖視圖。
圖14A和圖14B分別是根據(jù)本公開的示例性實(shí)施例的溝槽的寬度和深度作為激光束的能量強(qiáng)度的函數(shù)的曲線圖。
具體實(shí)施方式
將理解的是,當(dāng)元件或者層被稱作“在”另一元件或?qū)印吧稀薄ⅰ斑B接到”或者“結(jié)合到”另一元件或?qū)樱梢灾苯釉诹硪辉驅(qū)由稀⒅苯舆B接到或結(jié)合到另一元件或?qū)樱蛘呖梢源嬖谥虚g元件或中間層。在全文中,相同的附圖標(biāo)記指的是相同的元件。
在下文中,參照附圖將詳細(xì)地說明本公開的示例性實(shí)施例。
圖1是根據(jù)本公開的示例性實(shí)施例的顯示裝置的平面圖,圖2是在圖1中示出的顯示裝置的一個(gè)像素的平面圖,圖3是沿著圖2的I-I'線截取的剖視圖,圖4是圖2中示出的像素的等效電路圖。
參照?qǐng)D1至圖4,顯示裝置具有包括一對(duì)長(zhǎng)邊和一對(duì)短邊的矩形形狀。顯示裝置包括顯示區(qū)域DA和非顯示區(qū)域NDA,其中,顯示區(qū)域DA包括顯示圖像的多個(gè)像素PXL,非顯示區(qū)域NDA包圍顯示區(qū)域DA。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





