[發(fā)明專利]飛機(jī)殘冰檢測(cè)過程中掃描區(qū)域定位裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310412426.3 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103454220A | 公開(公告)日: | 2013-12-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 諸葛晶昌;于之靖;高建樹;鄭大川 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國民航大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/01 | 分類號(hào): | G01N21/01;G01N21/88 |
| 代理公司: | 天津才智專利商標(biāo)代理有限公司 12108 | 代理人: | 龐學(xué)欣 |
| 地址: | 300300 天*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 飛機(jī) 檢測(cè) 過程 掃描 區(qū)域 定位 裝置 | ||
1.一種飛機(jī)殘冰檢測(cè)過程中掃描區(qū)域定位裝置,其特征在于:其包括大視場(chǎng)角視覺定位傳感器(1)、固定支架(2)、三自由度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(3)、紅外多光譜殘冰檢測(cè)裝置(4)和主控裝置;其中:
三自由度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(3)的下端固定在機(jī)場(chǎng)移動(dòng)作業(yè)平臺(tái)上,在保證大視場(chǎng)角視覺定位傳感器(1)和紅外多光譜殘冰檢測(cè)裝置(4)相對(duì)位姿關(guān)系的基礎(chǔ)上,實(shí)現(xiàn)三維空間的全方位掃描;
固定支架(2)安裝在三自由度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(3)的上端,一端與大視場(chǎng)角視覺定位傳感器(1)相連,另一端與紅外多光譜殘冰檢測(cè)裝置(4)相接,用于保證大視場(chǎng)角視覺定位傳感器(1)和紅外多光譜殘冰檢測(cè)裝置(4)兩者之間的相對(duì)固定位姿關(guān)系,并通過固定位姿關(guān)系的預(yù)校準(zhǔn)確定出紅外多光譜殘冰檢測(cè)裝置(4)相對(duì)于飛機(jī)機(jī)體坐標(biāo)系的位姿;
大視場(chǎng)角視覺定位傳感器(1)用于對(duì)飛機(jī)輪廓以及飛機(jī)上的特定結(jié)構(gòu)特征點(diǎn)進(jìn)行成像特征提取,以確定出其相對(duì)于飛機(jī)機(jī)體坐標(biāo)系的位姿,然后將采集的圖像信息傳送給主控裝置;
紅外多光譜殘冰檢測(cè)裝置(4)用于實(shí)現(xiàn)掃描區(qū)域內(nèi)的飛機(jī)殘冰檢測(cè),得到飛機(jī)殘冰在掃描區(qū)域中的具體位置,然后將采集的圖像信息傳送給主控裝置;
主控裝置同時(shí)與大視場(chǎng)角視覺定位傳感器(1)、紅外多光譜殘冰檢測(cè)裝置(4)和三自由度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(3)通過導(dǎo)線相連,用于將大視場(chǎng)角視覺定位傳感器(1)和紅外多光譜殘冰檢測(cè)裝置(4)傳送的圖像信息經(jīng)過計(jì)算和處理,并實(shí)時(shí)進(jìn)行顯示,同時(shí)控制三自由度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(3)自由轉(zhuǎn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的飛機(jī)殘冰檢測(cè)過程中掃描區(qū)域定位裝置,其特征在于:所述的主控裝置為計(jì)算機(jī)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的飛機(jī)殘冰檢測(cè)過程中掃描區(qū)域定位裝置,其特征在于:所述的大視場(chǎng)角視覺定位傳感器(1)為IMPERX的IGV-B2020;紅外多光譜殘冰檢測(cè)裝置(4)上紅外多光譜像機(jī)為XENICS?XEVA2858。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國民航大學(xué),未經(jīng)中國民航大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310412426.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種含有稻米油的護(hù)發(fā)素
- 下一篇:半導(dǎo)體器件
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
- 檢測(cè)方法、檢測(cè)裝置和檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法以及記錄介質(zhì)
- 檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)設(shè)備及檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)組件、檢測(cè)裝置以及檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法及檢測(cè)程序
- 檢測(cè)電路、檢測(cè)裝置及檢測(cè)系統(tǒng)





