[發明專利]膜對準裝置有效
| 申請號: | 201310412364.6 | 申請日: | 2013-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN104183530B | 公開(公告)日: | 2018-10-16 |
| 發明(設計)人: | 柳廷和;李承俊 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/68 | 分類號: | H01L21/68;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人: | 余朦;劉錚 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 對準 裝置 | ||
1.一種膜對準裝置,包括:
支承固定件,在其上用于設置膜;以及
至少一個膜按壓單元,設置成與所述支承固定件鄰近,并使所述膜的彎曲端部與所述支承固定件緊密接觸,
其中所述膜按壓單元包括:
框架構件,包括以預定距離彼此間隔開的第一固定部分和第二固定部分,所述第一固定部分和所述第二固定部分均向上凸起;
旋轉構件,可旋轉地聯接至所述第一固定部分;以及
驅動構件,在其一側處可旋轉地聯接至所述第二固定部分并在其另一側處可旋轉地聯接至所述旋轉構件的一端,并生成能量以允許所述旋轉構件樞轉,從而使得所述旋轉構件的另一端與所述膜相接觸。
2.根據權利要求1所述的膜對準裝置,其中所述旋轉構件呈棒狀并形成為在其中部處彎曲,并且彎曲部分可旋轉地聯接至所述第一固定部分。
3.根據權利要求1所述的膜對準裝置,其中所述旋轉構件可形成為從處于中央的彎曲部分朝向兩端向下傾斜。
4.根據權利要求1所述的膜對準裝置,其中所述膜按壓單元還包括:
緊密接觸構件,所述緊密接觸構件可旋轉地聯接至所述旋轉構件的所述另一端,所述膜與所述旋轉構件的所述另一端緊密接觸。
5.根據權利要求4所述的膜對準裝置,其中所述緊密接觸構件為輥或頂支承件。
6.根據權利要求1所述的膜對準裝置,其中所述驅動構件包括
缸體,可旋轉地聯接至所述第二固定部分;
活塞,至少部分地接納在所述缸體中,以進行直線的往復運動;以及
聯接部分,形成在所述活塞的端部,以被可旋轉地聯接至所述旋轉構件的與所述缸體鄰近的端部。
7.根據權利要求6所述的膜對準裝置,其中所述驅動構件中所包括的所述缸體為液壓缸或氣壓缸。
8.根據權利要求1所述的膜對準裝置,其中所述膜按壓單元還包括:
移動構件,形成在所述框架構件的下側上;以及
能量生成構件,可滑動地緊固至所述移動構件并生成能量以允許所述移動構件進行直線的往復運動。
9.根據權利要求1所述的膜對準裝置,其中:
設有兩個所述膜按壓單元,并且
所述兩個膜按壓單元設置成與所述支承固定件的兩端鄰近并且使所述膜的兩個彎曲端部與所述支承固定件緊密接觸。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





