[發(fā)明專利]電解銅箔、清洗液組合物及清洗銅箔的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310412228.7
• 申請(qǐng)日: 2013-09-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104342746B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-01-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭桂森;賴耀生;卓倉(cāng)進(jìn);周瑞昌;羅喜興;劉岳旻
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長(zhǎng)春石油化學(xué)股份有限公司
• 主分類號(hào): C25D21/08
• 分類號(hào): C25D21/08;C23G1/24
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所 11247
• 代理人: 肖威;劉金輝

一種電解銅箔，包括：附著在該電解銅箔表面上的IIA族金屬，其中，以二次離子質(zhì)譜儀分析，以銅元素的信號(hào)強(qiáng)度為100%計(jì)，該IIA族金屬的信號(hào)強(qiáng)度為0.1%以上，從而改善電解銅箔氧化變色的問(wèn)題。本發(fā)明還提供一種清洗銅箔的方法及該方法所使用的清洗液組合物，以保護(hù)銅箔于制造以及運(yùn)送過(guò)程中不再受到酸根侵蝕，進(jìn)而具有良好的抗氧化及抗銹蝕能力，以改善公知銅箔保存性不佳的缺點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種電解銅箔的表面處理方法，更詳而言之，涉及一種經(jīng)防銹處理后，通過(guò)清洗銅箔而調(diào)整該電解銅箔表面的金屬組成的方法。

背景技術(shù)

電解銅箔不僅為印刷電路板中不可或缺的材料，尤其雙面平滑的銅箔可經(jīng)涂覆電極材料后作為鋰離子二次電池的負(fù)極板用，而隨著消費(fèi)性電子產(chǎn)品需求增加，對(duì)于電解銅箔的需求也是與日俱增。

又，由于目前商業(yè)上小型電子產(chǎn)品朝向更小型及輕量化發(fā)展，作為其驅(qū)動(dòng)電源的電池不僅需具備高工作電壓、高能量密度及循環(huán)壽命長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn)，亦需隨之小型化。非水電解質(zhì)二次電池，如鋰離子二次電池，由于其具有高能量密度、具有高容量及循環(huán)壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)，因此，可廣泛作為上述便攜式電子儀器的驅(qū)動(dòng)電源。

通常，使電解銅箔保存性不佳的原因有氧化及酸銹蝕。因此，通常于制得電解銅箔后，對(duì)其進(jìn)行電鍍防銹處理，如鉻化處理或通過(guò)有機(jī)化合物，如苯并三唑(Benzotriazole)與銅形成螯合物，以增加電解銅箔的耐候性。然而，經(jīng)電鍍防銹處理后的電解銅箔長(zhǎng)時(shí)間保存下，仍會(huì)產(chǎn)生氧化及酸銹蝕，即銅箔表面出現(xiàn)氧化點(diǎn)、變色等保存性不佳的缺點(diǎn)。其可能原因?yàn)椋壳坝糜谟∷㈦娐钒寤蜾囯x子二次電池負(fù)極的電解銅箔，是以硫酸將銅溶解后作為制造電解銅箔的電解液，但銅箔于制箔段形成后，殘存在銅箔表面的硫酸根離子會(huì)持續(xù)侵蝕銅箔。

為了改善電解銅箔容易銹化而導(dǎo)致保存性不佳的問(wèn)題，業(yè)界通常于防銹處理制程后進(jìn)行水洗工序，以兩段式去離子水漂洗鍍有防銹層的電解銅箔，以去除殘留于電解銅箔上的硫酸根離子或其它雜質(zhì)。又，于水洗工序中，水洗的水壓力、水量分布、沖洗距離及角度都有一定的要求。此外，于期刊中表示水洗工序中對(duì)水質(zhì)的要求很高，通常都使用電導(dǎo)度小于10μS/cm的去離子水(印制電路訊息，2004年第10卷)，意即，使用非常軟的軟水作為清洗液。然而，該方法雖于短時(shí)間內(nèi)，可防止銅箔變色，但在長(zhǎng)時(shí)間保存銅箔下，并未見(jiàn)顯著的效果。

因此業(yè)界仍亟需開(kāi)發(fā)一種能有效增加電解銅箔的抗氧化及抗銹蝕能力的表面處理方法，特別適用于防銹處理后的水洗工序的清洗方法、該清洗方法所使用的清洗液組合物及具抗氧化及抗銹蝕能力的電解銅箔。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種用于清洗電解銅箔的清洗液組合物，包括：液態(tài)介質(zhì)；以及IIA族金屬鹽，其中，該IIA族金屬鹽于該液態(tài)介質(zhì)中所產(chǎn)生的金屬離子的含量為10mg/L以上。

一具體實(shí)施例中，于該液態(tài)介質(zhì)中所產(chǎn)生的金屬離子的含量為32mg/L以上。另一具體實(shí)施例中，于該液態(tài)介質(zhì)中所產(chǎn)生的金屬離子的含量為63mg/L以上。即，該液態(tài)介質(zhì)中所產(chǎn)生的金屬離子的含量至少可為32至63mg/L。

該液態(tài)介質(zhì)可為去離子水或純水。

該IIA族金屬離子是鎂離子或鈣離子。于本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，該IIA族金屬鹽為選自氯化鎂及氯化鈣所組成組的至少一種。

本發(fā)明還提供一種利用前述清洗液組合物清洗電解銅箔的方法。本發(fā)明的方法可用于清洗各種經(jīng)處理或未經(jīng)處理的電解銅箔。于一實(shí)施例中，該電解銅箔是經(jīng)防銹處理的電解銅箔。

于清洗電解銅箔的方法的一實(shí)施例中，以沖洗方式清洗該電解銅箔。于優(yōu)選實(shí)施中，該清洗方法為使用前述清洗液組合物以扇狀水柱噴灑該電解銅箔。

于另一具體實(shí)施例中，該方法為將該電解銅箔浸沒(méi)于前述的清洗液組合物中，并滯留0.1至20秒。