[發(fā)明專利]一種可調的高穩(wěn)定F-P整體腔裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310410917.4
• 申請日: 2013-09-10
• 公開（公告）號: CN103457144A
• 公開（公告）日: 2013-12-18
• 發(fā)明（設計）人: 田曉;常宏
• 申請（專利權）人: 中國科學院國家授時中心
• 主分類號: H01S3/08
• 分類號: H01S3/08
• 代理公司: 西安永生專利代理有限責任公司 61201
• 代理人: 曹宇飛

1.一種可調的高穩(wěn)定F-P整體腔裝置，其特征在于：包括信號源（7）、與信號源（7）相連的高壓放大器（6）、光源（1）以及依次設置在光源（1）出射光路上的光學隔離器（2）和反射平面鏡組、依次設置在反射平面鏡組反射光路上的匹配透鏡（4）和F-P整體腔鏡組（5）；

上述反射平面鏡組是相互平行的第一平面鏡（3）和第二平面鏡（8）構成，第一平面鏡（3）設置在光源（1）出射光路上且與光源（1）光軸之間的夾角為45°，第二平面鏡（8）設置在第一平面鏡（3）的下方且與第一平面鏡（3）平行；

上述F-P整體腔鏡組（5）為：在基座（5-2）外設置有腔罩（5-1），腔罩（5-1）的前端與后端分別加工有透光窗口，在基座（5-2）頂部加工有V形槽，V形槽內依次設置有前三維調節(jié)鏡架（5-3）和后三維調節(jié)鏡架（5-8），前三維調節(jié)鏡架（5-3）上設置有第一平凹透鏡（5-4），后三維調節(jié)鏡架（5-8）上設置安裝有壓電陶瓷（5-6）的套環(huán)（5-7），壓電陶瓷（5-6）上設置第二平凹透鏡（5-5），第一平凹透鏡（5-4）的凹面與第二平凹透鏡（5-5）的凹面一側相對且第一平凹透鏡（5-4）與第二平凹透鏡（5-5）的中心軸在同一條直線上，第一平凹透鏡（5-4）與第二平凹透鏡（5-5）的表面均鍍有高反射膜，壓電陶瓷（5-6）通過導線與高壓放大器（6）相連。

2.根據(jù)權利要求1所述的可調的高穩(wěn)定F-P整體腔裝置，其特征在于：所述第一平面鏡（3）與第二平面鏡（8）的中心間距是20～80mm。

3.根據(jù)權利要求1所述的可調的高穩(wěn)定F-P整體腔裝置，其特征在于：所述第一平凹透鏡（5-4）與第二平凹透鏡（5-5）的凹面曲率半徑均是100mm，其中心間距與透鏡曲率半徑相等。

4.根據(jù)權利要求1所述的可調的高穩(wěn)定F-P整體腔裝置，其特征在于：所述第一平面鏡（3）與第二平面鏡（8）的高反射膜是由ZnS與MgF₂交替蒸鍍11～13層所形成。

5.根據(jù)權利要求1所述的可調的高穩(wěn)定F-P整體腔裝置，其特征在于：所述匹配透鏡（4）是平凸透鏡，其凸面曲率半徑為100～300mm，在匹配透鏡（4）的表面鍍有增透膜，所述增透膜是MgF₂與TiO交替蒸鍍12層形成。

6.根據(jù)權利要求1所述的可調的高穩(wěn)定F-P整體腔裝置，其特征在于：所述V形槽的兩側之間的夾角α為45°。

7.根據(jù)權利要求1所述的可調的高穩(wěn)定F-P整體腔裝置，其特征在于：所述基座（5-2）的左右側壁下端對稱加工有矩形槽。

8.根據(jù)權利要求1所述的可調的高穩(wěn)定F-P整體腔裝置，其特征在于：所述壓電陶瓷（5-6）呈中空圓柱狀結構。

9.根據(jù)權利要求1至8任一項所述的可調的高穩(wěn)定F-P整體腔裝置，其特征在于：所述裝置還包括樣品池（9），樣品池（9）設置在前三維調節(jié)鏡架（5-3）與后三維調節(jié)鏡架（5-8）之間的基座（5-2）上。