[發(fā)明專利]應用非平衡磁控濺射技術(shù)在紡紗鋼領(lǐng)上鍍鉻的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310410795.9 | 申請日： | 2013-09-11 |
| 公開（公告）號： | CN103484828A | 公開（公告）日： | 2014-01-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 姚建平 | 申請（專利權(quán)）人： | 昆山市萬豐制衣有限責任公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215313 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 應用 平衡 磁控濺射 技術(shù) 紡紗 鋼領(lǐng) 鍍鉻 方法 | ||
1.一種應用非平衡磁控濺射技術(shù)在紡紗鋼領(lǐng)上鍍鉻的方法，其特征在于，待鍍鋼領(lǐng)放在真空室內(nèi)旋轉(zhuǎn)工夾架上，偏壓電流電源加在工夾架上及真空室外壁上，純金屬鉻塊放置在非平衡磁控濺射靶上，非平衡磁控濺射靶連接中頻電源，通電后，真空室內(nèi)的混合氣體產(chǎn)生各種氣體的等離子體，參加各種物理、化學反應，純金屬鉻塊的表面出現(xiàn)明亮的弧斑，達到電流密度后，純金屬鉻蒸發(fā)氣化成等離子體，按磁場中的磁力線向外擴散，這些被濺射出來的鉻離子沉積在待鍍鋼領(lǐng)的表面，隨時間增加，而形成鍍鉻層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應用非平衡磁控濺射技術(shù)在紡紗鋼領(lǐng)上鍍鉻的方法，其特征在于，所述非平衡磁控濺射靶有四個。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應用非平衡磁控濺射技術(shù)在紡紗鋼領(lǐng)上鍍鉻的方法，其特征在于，所述真空室內(nèi)的真空度為6×10-3Pa。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應用非平衡磁控濺射技術(shù)在紡紗鋼領(lǐng)上鍍鉻的方法，其特征在于，所述真空室內(nèi)的氣體為N2、Ar、C2H2、O2的混合氣體。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應用非平衡磁控濺射技術(shù)在紡紗鋼領(lǐng)上鍍鉻的方法，其特征在于，所述中頻電源的電流10A～100A，電壓10V～20V。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應用非平衡磁控濺射技術(shù)在紡紗鋼領(lǐng)上鍍鉻的方法，其特征在于，所述電流密度為105A／cm2～107A／cm2。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
