[發(fā)明專利]噴墨頭制造方法、噴墨頭及打印設備

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• 申請日: 2013-09-10
• 公開（公告）號: CN104417065A
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發(fā)明（設計）人: 李越
• 申請（專利權）人: 珠海納思達企業(yè)管理有限公司
• 主分類號: B41J2/16
• 分類號: B41J2/16
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權代理有限公司 11205
• 代理人: 劉芳

技術領域

本發(fā)明涉及打印機制造技術，尤其涉及一種噴墨頭制造方法、噴墨頭及打印設備。?

背景技術

現(xiàn)有技術中，如圖1所示，打印設備中的噴墨頭結構一般包括基底100，在基底100的一面上通過刻蝕工藝形成有多個壓力腔室101以及公共腔室103，多個壓力腔室101通過側壁102隔開，公共腔室103與多個壓力腔室101通過供給口104連通，以使各個壓力腔室101互相連通且通過公共腔室103供給墨液，在各壓力腔室101的一面上設置有噴孔板200，另一面上設置有振動板300和壓電元件（圖中未示），在打印時，壓電元件在電壓驅動下產(chǎn)生變形，并傳遞給振動板300引起壓力腔室101體積變化，從而使壓力腔室101中的墨水從噴孔板200上的噴孔201中噴出以完成打印。?

但是，隨著打印設備的改進，對打印分辨率的要求越來越高，為提高打印分辨率則需要增加壓力腔室的數(shù)量，而增加壓力腔室的數(shù)量會導致各壓力腔室之間的側壁變薄，由于目前各壓力腔室是在作為基底的硅片上通過蝕刻形成，各壓力腔室之間的側壁變薄會影響到基底的機械強度和性能，在加工過程中容易出現(xiàn)作為側壁的硅片破損而使整個噴墨頭的成品率低，增加制造成本。?

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種噴墨頭制造方法，用于解決現(xiàn)有技術中增加壓力腔室數(shù)量導致側壁變薄，從而影響基底的機械強度和性能，并且各壓力腔室之間的側壁容易破損增加制造成本的問題。?

本發(fā)明一方面提供一種噴墨頭制造方法，包括：?

在基板的第一表面上形成壓電元件；?

在所述壓電元件背離所述基板一側形成振動板；?

在所述壓電元件上表面所在的第一平面與所述振動板上方的第二平面之間的空間內(nèi)涂覆光刻膠，形成與所述基板對應的第二膠層，在所述第二膠層上涂覆光刻膠，形成第三膠層；?

對所述第二膠層及第三膠層進行曝光處理，使所述第二膠層及第三膠層上的部分光刻膠固化；?

對所述第二膠層及所述第三膠層進行顯影處理，使所述第二膠層及第三膠層未固化的部分去除，以在所述第二膠層上形成公共腔室及與所述公共腔室連通的多個壓力腔室，在所述第三膠層上形成與所述壓力腔室對應的多個噴孔。?

本發(fā)明另一方面提供一種噴墨頭，采用上述所述的噴墨頭制造方法制造而成。?

本發(fā)明再一方面提供一種打印設備，包括上述所述的噴墨頭。?

本發(fā)明提供的噴墨頭制造方法、噴墨頭及打印設備，采用在基板上方的膠層上通過曝光及顯影處理形成各腔室及用以噴墨的噴孔的工藝，不僅提高了制造效率及制造精度，而且在加工中即使壓力室和側壁尺寸的減小也不會影響到基底的機械強度和性能，利于提高噴墨頭生產(chǎn)過程中的成品率。?

附圖說明

圖1為現(xiàn)有技術中打印設備中噴墨頭的結構示意圖；?

圖2為本發(fā)明實施例一提供的噴墨頭制造方法的流程示意圖；?

圖3為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法的流程示意圖；?

圖4A為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中在基底上形成保護層后的結構示意圖；?

圖4B為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中在基底上形成壓電元件后的結構示意圖；?

圖4C為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中形成第一膠層后的結構示意圖；?

圖4D為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中對第一膠層進行曝光?處理的示意圖；?

圖4E為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中形成振動板后的結構示意圖；?

圖4F為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中形成第二膠層后的結構示意圖；?

圖4G為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中對第二膠層進行曝光的示意圖；?

圖4H為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中對第二膠層進行曝光后在第二膠層上形成第三膠層后的結構示意圖；?

圖4I為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中對第三膠層進行曝光的示意圖；?

圖4J為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中第二膠層及第三膠層形成后的結構示意圖；?

圖4K為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中對第二膠層及第三膠層同時進行曝光的示意圖；?

圖4L為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中形成保護層的示意圖；?

圖4M為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中形成供墨孔及變形空間后的結構示意圖；?

圖4N為本發(fā)明實施例二提供的噴墨頭制造方法中對第一膠層、第二膠層及第三膠層進行顯影處理后的結構示意圖。?