[發明專利]一種基于自適應預測模型的高容量可逆水印方法

有效

• 申請號: 201310408792.1
• 申請日: 2013-09-10
• 公開（公告）號: CN103440616A
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發明（設計）人: 翁韶偉;張天聰;潘正祥
• 申請（專利權）人: 廣東工業大學
• 主分類號: G06T1/00
• 分類號: G06T1/00
• 代理公司: 廣州市南鋒專利事務所有限公司 44228
• 代理人: 劉媖

1.一種基于自適應預測模型的高容量可逆水印方法，其特征在于：包括水印嵌入過程及水印提取和原圖像恢復過程；所述水印嵌入過程包括：

預測模型的設計過程；所述預測模型的設計過程包括以下兩個步驟：

將一副原始圖像的全部像素分成第一類像素和第二類像素；所述第一類像素約占全部像素的四分之一，組成用于預測所述第二類像素的像素集合，且所述第一類像素不允許水印嵌入過程對它們有任何的修改，稱第一類臨時不變集；所述第二類像素約占全部像素的四分之三，組成待嵌入像素集合，稱第一類改變集；

設計四種預測模型，每一種預測模型分成以下兩步：

①所述第二類像素包括三分之一的第二類像素和三分之二的第二類像素；先讓所述三分之一的第二類像素暫時保持不變，組成第二類臨時不變集，所述第二類臨時不變集和所述第一類臨時不變集一起預測所述三分之二的第二類像素，故稱所述三分之二的第二類像素為第二類改變集；

②用所述第二類臨時不變集的????????????????????????????????????????????????和兩條對角線上的四個屬于所述第一類像素的像素去預測第二類臨時不變集。

2.還包括自適應嵌入策略；在每一個所述的四種預測模型中，由所述自適應嵌入策略計算出所述第二類臨時不變集中每一像素的四個相鄰像素的方差，若方差小于某一給定的門限，則稱該四個相鄰近像素的相關性強，并嵌2比特水印到此像素中；若方差大于或等于所述某一給定的門限，則嵌1比特水印到此像素中；

所述水印提取和原圖像恢復過程為所述水印嵌入過程的逆過程。