[發(fā)明專利]基于B樣條曲面擬合的TFT-LCD Mura缺陷機(jī)器視覺檢測(cè)方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310405884.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103792699A | 公開(公告)日: | 2014-05-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李坤;李輝;盧小鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中華人民共和國(guó)四川出入境檢驗(yàn)檢疫局 |
| 主分類號(hào): | G02F1/13 | 分類號(hào): | G02F1/13;G01N21/88 |
| 代理公司: | 深圳市科吉華烽知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44248 | 代理人: | 胡吉科 |
| 地址: | 610041 四川*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 曲面 擬合 tft lcd mura 缺陷 機(jī)器 視覺 檢測(cè) 方法 | ||
1.一種基于B樣條曲面擬合的TFT-LCD?Mura缺陷機(jī)器視覺檢測(cè)方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)在暗室中通過CCD相機(jī)采集到被點(diǎn)亮的TFT-LCD灰度圖像,設(shè)定了采集圖像時(shí)環(huán)境的照度、溫度、濕度以及CCD相機(jī)的采集圖像的角度和到TFT-LCD的距離,將圖像傳入計(jì)算機(jī);
(2)對(duì)原始圖像做濾波處理;
(3)感興趣區(qū)域分割,將LCD圖像從帶有載物臺(tái)背景的圖像中分割出來;
(4)采用基于B樣條的最小二乘法的曲面擬合方法,擬合出一個(gè)近似通過LCD圖像上給定數(shù)據(jù)點(diǎn)、能反映圖像背景基本變化趨勢(shì)的B樣條曲面;
(5)用濾波處理和感興趣區(qū)域分割之后的LCD圖像減去擬合出的背景,得到消除亮度不均勻背景后的圖像;
(6)采用Canny算子分割步驟(5)得到的圖像,將Mura缺陷區(qū)域分割出來;
(7)計(jì)算步驟(6)得到的Mura區(qū)域的面積、Mura區(qū)域亮度平均值,計(jì)算步驟(3)得到LCD圖像背景亮度平均值;
(8)參照SEMU標(biāo)準(zhǔn),按照步驟(7)計(jì)算出的缺陷面積、缺陷亮度平均值、LCD圖像背景亮度平均值計(jì)算出缺陷等級(jí)。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于B樣條曲面擬合的TFT-LCD?Mura缺陷機(jī)器視覺檢測(cè)方法,其特征在于,步驟(1)包括了采集圖像時(shí)的環(huán)境照度、溫度、濕度參數(shù)范圍。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于B樣條曲面擬合的TFT-LCD?Mura缺陷機(jī)器視覺檢測(cè)方法,其特征在于,步驟(1)包括采集圖像時(shí)CCD相機(jī)采集圖像的角度和距離計(jì)算方法。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于B樣條曲面擬合的TFT-LCD?Mura缺陷機(jī)器視覺檢測(cè)方法,其特征在于,步驟(2)中采用的濾波器是巴特沃斯低通濾波器。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于B樣條曲面擬合的TFT-LCD?Mura缺陷機(jī)器視覺檢測(cè)方法,其特征在于,步驟(3)包括全局閾值法和Hough變換。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于B樣條曲面擬合的TFT-LCD?Mura缺陷機(jī)器視覺檢測(cè)方法,其特征在于,步驟(4)包括雙三次B樣條的最小二乘曲面擬合、雙三次B樣條曲面的光順擬合、雙三次B樣條函數(shù)的乘積型原理分解。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于B樣條曲面擬合的TFT-LCD?Mura缺陷機(jī)器視覺檢測(cè)方法,其特征在于,是對(duì)原始圖像的分塊擬合,分塊擬合后拼接成原始圖像大小的背景圖像。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于B樣條曲面擬合的TFT-LCD?Mura缺陷機(jī)器視覺檢測(cè)方法,其特征在于,在步驟(4)和步驟(5)之間包括數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)處理方法。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于B樣條曲面擬合的TFT-LCD?Mura缺陷機(jī)器視覺檢測(cè)方法,其特征在于,步驟(5)包括在濾波處理和感興趣區(qū)域分割之后的LCD圖像上每個(gè)像素都加上一個(gè)常量,避免背景相減后出現(xiàn)像素值為負(fù)值的現(xiàn)象。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





