[發明專利]光學模塊、電子設備以及驅動方法在審
| 申請號: | 201310404583.X | 申請日: | 2013-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN103675977A | 公開(公告)日: | 2014-03-26 |
| 發明(設計)人: | 松下友紀;廣久保望 | 申請(專利權)人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/28 | 分類號: | G02B5/28;G02B26/00;G01J3/02;G01J3/26 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 余剛;吳孟秋 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 模塊 電子設備 以及 驅動 方法 | ||
1.一種光學模塊,其特征在于,
具備:
第一反射膜,使入射光的一部分透過一部分反射;
第二反射膜,與所述第一反射膜相對配置、使入射光的一部分透過一部分反射;以及
間隙控制部,改變所述第一反射膜及所述第二反射膜之間的間隙的大小,
所述間隙控制部根據針對構成測定對象波長區域的兩個以上波長區域組分別設定的透過光譜的次數,控制與所述測定對象波長對應的所述間隙的大小。
2.根據權利要求1所述的光學模塊,其特征在于,
具有間隙變更部,所述間隙變更部通過施加電壓而改變所述間隙的大小,
所述間隙控制部具備存儲部,存儲按照每一個所述測定對象波長記錄針對所述測定對象波長的、對所述間隙變更部施加的所述電壓的V-λ數據,
所述V-λ數據是將所述測定對象波長與對應于用于將所述測定對象波長的光作為設定的所述次數的峰值波長取出的所述間隙的所述電壓進行關聯的數據,
所述間隙控制部根據所述V-λ數據對所述間隙變更部施加與所述測定對象波長對應的所述電壓。
3.根據權利要求1所述的光學模塊,其特征在于,
具有間隙變更部,所述間隙變更部通過施加電壓改變所述間隙的大小,
所述間隙控制部具備存儲部,存儲按照每一個所述測定對象波長記錄針對所述測定對象波長的、對所述間隙變更部施加的所述電壓的V-λ數據,
所述V-λ數據是所述測定對象波長與對應于用于將所述測定對象波長的光作為各所述次數的峰值波長取出的所述間隙的電壓的關系,
所述間隙控制部選擇與所述測定對象波長對應的所述次數,并對所述間隙變更部施加與選擇的所述次數對應的所述電壓。
4.根據權利要求1所述的光學模塊,其特征在于,
測定波長區域包括第一波長區域、以及作為波長比所述第一波長區域長的波長區域的第二波長區域,
對屬于所述第一波長區域的所述測定對象波長設定的所述次數比對屬于所述第二波長區域的所述測定對象波長設定的所述次數高。
5.根據權利要求4所述的光學模塊,其特征在于,
用于取出所述第二波長區域中的最長波長的光的所述間隙,比用于取出所述第一波長區域中的最短波長的光的所述間隙大。
6.根據權利要求4所述的光學模塊,其特征在于,
所述間隙控制部分別取得針對所述測定波長區域所包含的多個所述測定對象波長的所述間隙,從所述間隙的最大值開始沿所述間隙減少的方向依次改變為取得的所述間隙。
7.一種電子設備,其特征在于,
具備:
權利要求1至6中任一項所述的光學模塊;以及
處理控制部,所述處理控制部根據通過所述第一反射膜及所述第二反射膜取出的光進行規定的處理。
8.根據權利要求7所述的電子設備,其特征在于,
具備檢測部,檢測通過所述第一反射膜及所述第二反射膜取出的光,
所述處理控制部使將基于由所述檢測部檢測的各測定對象波長的光的光量的測量光譜轉換為分光光譜的轉換矩陣作用于所述測量光譜,從而估計射入所述第一反射膜及所述第二反射膜的測定光的分光光譜。
9.一種驅動方法,其特征在于,
是波長可變干涉濾波器的驅動方法,所述波長可變干涉濾波器具備:
第一反射膜,使入射光的一部分透過一部分反射;
第二反射膜,與所述第一反射膜相對配置、使入射光的一部分透過一部分反射;以及
間隙變更部,改變所述第一反射膜及所述第二反射膜之間的間隙的大小,
所述驅動方法根據測定對象波長、以及對構成測定對象波長區域的兩個以上波長區域組分別設定的透過光譜的次數來控制所述間隙變更部。
10.一種光學模塊,其特征在于,
具備:
第一反射膜,使入射光的一部分透過一部分反射;
第二反射膜,與所述第一反射膜相對配置、使入射光的一部分透過一部分反射;以及
間隙變更部,改變所述第一反射膜及所述第二反射膜之間的間隙的大小,
當設定m、n為不同自然數時,所述光學模塊在檢測第一波長區域的光時使用m次的峰值波長進行檢測,在檢測與所述第一波長區域不同的第二波長區域的光時,使用n次的峰值波長進行檢測。
11.根據權利要求10所述的光學模塊,其特征在于,
所述第一波長區域比所述第二波長區域波長短,
并滿足m=n+1的關系。
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