[發明專利]肖特基柵陣型太赫茲調制器有效
| 申請號: | 201310403216.8 | 申請日: | 2013-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN103457669A | 公開(公告)日: | 2013-12-18 |
| 發明(設計)人: | 范飛;常勝江 | 申請(專利權)人: | 南開大學 |
| 主分類號: | H04B10/54 | 分類號: | H04B10/54;G02F1/015 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 300071*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 肖特基柵陣型太 赫茲 調制器 | ||
1.一種肖特基柵陣型太赫茲調制器,其特征在于包括基底金屬柵陣(1)、臺階金屬柵陣(2)、摻雜砷化鎵柵型臺階(3)、摻雜砷化鎵外延層(4)、半絕緣砷化鎵襯底(5)、正電極(6)、負電極(7)。
2.根據權利要求1所述的肖特基柵陣型太赫茲調制器,其特征在于摻雜砷化鎵外延層(4)位于半絕緣砷化鎵襯底(5)上,按一維周期性排列的摻雜砷化鎵柵型臺階(3)位于摻雜砷化鎵外延層(4)上,二者厚度均為1μm,n型摻雜,摻雜濃度3×1016cm-3。
3.根據權利要求1所述的肖特基柵陣型太赫茲調制器,其特征在于臺階金屬柵陣(2)和基底金屬柵陣(1)由10nm厚的鈦和其上的100nm的金薄膜構成;臺階金屬柵陣(2)將摻雜砷化鎵柵型臺階(3)頂部完全覆蓋,基底金屬柵陣(1)位于摻雜砷化鎵外延層(4)上,與臺階金屬柵陣(2)間隙為5μm。
4.根據權利要求1所述的肖特基柵陣型太赫茲調制器,其特征在于基底金屬柵陣(1)和臺階金屬柵陣(2)分別與它們下方的摻雜砷化鎵形成肖特基接觸,肖特基接觸中存在一定寬度的空間電荷區,這一區域的載流子濃度遠低于周圍摻雜砷化鎵的載流子濃度;通過正電極(6)將基底金屬柵陣(1)串聯,負電極(7)將臺階金屬柵陣(2)串聯,在兩個電極上焊接引線,就可以對器件施加調制電壓信號。
5.根據權利要求1至4所述的肖特基柵陣型太赫茲調制器,其特征在于太赫茲波沿柵周期排列方向耦合到該器件表面,在金屬柵與摻雜半導體接觸面上產生太赫茲表面等離子體共振激元,該激元的空間位置正好與空間電荷區重合;當對該器件施加電壓時,空間電荷區寬度變化,將引起其中的表面等離子體激元的諧振頻率和諧振強度變化,從而實現對太赫茲波的強度調制,這是該器件的基本工作原理。
6.一種使用權利1至5所述的肖特基柵陣型太赫茲調制器的調控方法,其特征在于在正、負電極間施加正向或反向調制電壓,均可實現對太赫茲波的調制;施加正向電壓時,器件具有兩個固定工作頻率,調制深度隨電壓增大而增大;施加反向電壓時,器件的有一個固定工作頻率,調制深度隨電壓增大而增大,還存在一個可調工作頻率范圍,工作頻率隨電壓增大而下降。
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