[發(fā)明專利]光譜測量系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310401610.8
• 申請日: 2013-09-06
• 公開（公告）號: CN103499391A
• 公開（公告）日: 2014-01-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐寧漢;肖曉飛;白本鋒;譚峭峰;金國藩
• 申請（專利權(quán)）人: 清華大學(xué)
• 主分類號: G01J3/42
• 分類號: G01J3/42;G01J3/44;G01N21/31
• 代理公司: 深圳市鼎言知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44311
• 代理人: 哈達(dá)

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光譜信息測量領(lǐng)域，尤其涉及一種應(yīng)用于消光光譜、散射光譜和吸收光譜信息測量的雙光束光譜測量系統(tǒng)。

背景技術(shù)

隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步，人們對物質(zhì)消光光譜信息的計(jì)量要求日益提高。在過去的數(shù)十年里，分光光度計(jì)作為光譜測量領(lǐng)域重要的科研儀器得到了廣泛的應(yīng)用。現(xiàn)有的分光光度計(jì)主要有：單光束，雙光束和雙波長三種類型。它們被廣泛應(yīng)用于許多行業(yè)，包括半導(dǎo)體，激光和光學(xué)制造，印刷和法醫(yī)檢驗(yàn)，以及在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行的化學(xué)物質(zhì)的研究等。

消光光譜包括散射光譜和吸收光譜，隨著人類對物質(zhì)特性的研究不斷加深，人們發(fā)現(xiàn)物質(zhì)的消光光譜、散射光譜和吸收光譜中含有大量的不同信息，這些信息可以幫助人們對諸如物質(zhì)的成分進(jìn)行定量分析，對物質(zhì)的形態(tài)進(jìn)行定量標(biāo)定等。研究和發(fā)展對物質(zhì)的消光光譜、散射光譜和吸收光譜分別進(jìn)行定量測量的多功能雙光束光譜系統(tǒng)，能夠有效提高測量精度和分辨率，為科學(xué)技術(shù)的發(fā)展與應(yīng)用提供了可靠的技術(shù)保障，具有重要的科研價(jià)值和巨大的經(jīng)濟(jì)價(jià)值。

然而，現(xiàn)有的分光光度計(jì)僅能對物質(zhì)的反射、透射和熒光光譜進(jìn)行直接測量，因此僅可以間接得到物質(zhì)的消光光譜，并且，現(xiàn)有的分光光度計(jì)無法分離物質(zhì)的吸收光譜和散射光譜，因此無法進(jìn)行吸收光譜和散射光譜的定量測量。

發(fā)明內(nèi)容

綜上所述，確有必要提供一種能夠測量消光光譜尤其是散射光譜信息測量的雙光束光譜測量系統(tǒng)。

一種光譜測量系統(tǒng)，主要包括：光源模組，用以產(chǎn)生單色光；斬光器，用以將光源模組產(chǎn)生的單色光分成一參考光及一測量光兩路光束；參考樣品模組，包括一參考樣品池及一衰減片依次設(shè)置于所述參考光的光路上，所述參考樣品池用以承載參考樣品，所述衰減片用以減弱從參考樣品池出射的參考光；反射模組，設(shè)置于所述測量光的光路上，以改變測量光入射到待測樣品的方向，使入射到待測樣品的測量光與從待測樣品散射的測量光形成一夾角；樣品池，設(shè)置于從所述反射模組出射的測量光的光路上，用以承載待測樣品；以及光電探測及處理單元，用于探測從樣品池出射的測量光以及從衰減片出射的測量光，并對兩束光進(jìn)行處理，得到消光光譜及散射光譜。

與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明提供的光譜測量系統(tǒng)，利用參考光及測量光雙光束對待測樣品進(jìn)行測量，并通過改變測量光入射到待測樣品的方向，實(shí)現(xiàn)了直接得到消光光譜、散射光譜，進(jìn)而可推導(dǎo)出吸收光譜，并且使得測量結(jié)果誤差很小。

附圖說明

圖1為本發(fā)明第一實(shí)施例提供的光譜測量系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本發(fā)明第二實(shí)施例提供的光譜測量系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為本發(fā)明第三實(shí)施例提供的光譜測量系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4為本發(fā)明第四實(shí)施例提供的光譜測量系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。

主要元件符號說明