[發明專利]低光澤抗沖耐候PC復合材料

無效

• 申請號: 201310399531.8
• 申請日: 2013-09-05
• 公開（公告）號: CN104419186A
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 青島欣展塑膠有限公司
• 主分類號: C08L69/00
• 分類號: C08L69/00;C08L33/00;C08L51/00;C08K5/134;C08K5/526;C08K5/103
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1.一種低光澤抗沖耐候PC復合材料，其特征在于，其組分按質量百分數配比為：PC樹脂75%～90%、抗沖擊改性劑5%～10%、消光劑1%～3%、光穩定劑1%～3%、增容劑2%～4%、抗氧劑0.1%～0.5%、潤滑劑0.1%～1.5%。

2.根據權利要求1所述的低光澤抗沖耐候PC復合材料，其特征在于，所述的抗沖擊改性劑為具有核殼結構的丙烯酸酯類抗沖擊改性劑ACR或甲基丙烯酸酯-丁二烯-苯乙烯共聚物MBS。

3.根據權利要求1所述的低光澤抗沖耐候PC復合材料，其特征在于，所述的消光劑為有機高分子消光劑，優選交聯型丁二烯-丙烯腈聚合物或交聯型苯乙烯-丙烯腈聚合物。

4.根據權利要求1所述的低光澤抗沖耐候PC復合材料，其特征在于，所述的光穩定劑為質量比1：1的受阻胺類高分子量光穩定劑GW-944Z和GW-622的復配物。

5.根據權利要求1所述的低光澤抗沖耐候PC復合材料，其特征在于，所述的增容劑為聚甲基丙烯酸甲酯接枝馬來酸酐（PMMA-g-MAH）。

6.根據權利要求1所述的低光澤抗沖耐候PC復合材料，其特征在于，所述的抗氧劑為質量比1：1的受阻酚類抗氧劑1076和亞磷酸酯類抗氧劑168的復配物。

7.根據權利要求1所述的低光澤抗沖耐候PC復合材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：按重量配比稱取各組分，并分別加入高速混合中一起攪拌5～30分鐘，使充分混合和均勻分散后，出料加入雙螺桿擠出機中，在250℃～290℃下經熔融混煉擠出、冷卻造粒，即得成品。