[發明專利]二段電場結構靜電噴射系統及陣列與使用方法

有效

• 申請號: 201310399452.7
• 申請日: 2013-09-05
• 公開（公告）號: CN103464319A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 顧文華
• 申請（專利權）人: 顧文華
• 主分類號: B05B5/035
• 分類號: B05B5/035;B05B15/04
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務所 32237
• 代理人: 賀翔

1.一種二段電場結構靜電噴射系統，其特征在于：

包括接入第一電位的噴頭（1）、接入第二電位的控制電極（2）和接地或接入第三電位的噴射基底（3）；其中噴頭（1）與控制電極（2）共同組成靜電液滴產生裝置，產生第一段電場；控制電極（2）與噴射基底（3）共同組成靜電液滴收集裝置，產生第二段電場。

2.根據權利要求1所述的二段電場結構靜電噴射系統，其特征在于：

（a）上述噴頭（1）包括接入第一電位的電源和液體存儲輸送裝置；噴頭到控制電極（2）的距離為厘米至微米量級；噴頭與控制電極之間的電壓差為幾伏到幾萬伏，所產生的高強度電場足以激發靜電噴射，所述高強度電場為100~10000千伏/米量級；

（b）上述噴射基底（3）與控制電極（2）之間的距離為厘米至米量級；噴射基底（3）與控制電極（2）之間的電壓差為幾伏到幾萬伏，所產生的液滴空間分布控制電場為低強度電場，所述低強度電場為0.1～100千伏/米量級。

3.根據權利要求1所述的二段電場結構靜電噴射系統，其特征在于：

上述噴頭與控制電極之間的電壓差為幾伏至幾十伏；上述控制電極（2）所施加的電壓為幾十到幾百伏；上述噴射基底（3）接地；噴頭（1）與控制電極（2）之間的距離為幾到幾十微米；噴射基底（3）與控制電極（2）之間的距離為幾到幾十厘米。

4.一種靜電噴射系統陣列，其特征是包含若干個單元，每個單元中包括一個如權利要求1所述的二段電場結構靜電噴射系統，各單元的結構參數和控制參數完全一致或不一致。

5.權利要求1所述的二段電場結構靜電噴射系統的使用方法，其特征在于：

（a）通過調節噴頭（1）的電壓或空間位置或液體流量或液體性質，而保持控制電極（2）及噴射基底（3）的參數不變，以改變靜電液滴的產生方式和靜電液滴的參數，但是不改變第二段電場，從而基本不改變第二段電場中靜電液滴的空間分布；

（b）通過調節噴射基底（3）的電壓或空間位置，而保持控制電極（2）及噴頭（1）的參數不變，以改變靜電液滴的運動和空間分布，但是不改變其大小等，且不影響第一段電場的分布和其中的靜電液滴狀態；

（c）通過調節控制電極（2）的電壓或空間位置，而保持噴頭（1）和噴射基底（3）的參數不變，從而實現靜電液滴在第一段和第二段的同時調節；

（d）通過分別獨立調節控制電極（2）的電壓或空間位置，噴頭（1）的電壓或空間位置或液體流量或液體性質，噴射基底（3）的電壓或空間位置參數，實現靜電液滴在第一段電場和第二段電場的同時調節。