[發(fā)明專利]工藝氣體的脫硫和冷卻無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310396930.9 | 申請日： | 2013-09-04 |
| 公開（公告）號： | CN103657349A | 公開（公告）日： | 2014-03-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | O.斯塔爾曼恩;G.海恩滋 | 申請（專利權(quán)）人： | 阿爾斯通技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | B01D53/18 | 分類號： | B01D53/18 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 徐晶;林森 |
| 地址： | 瑞士*** | 國省代碼： | 瑞士;CH |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 工藝 氣體 脫硫 冷卻 | ||
1.一種清潔含二氧化硫的工藝氣體的方法，所述方法包括：
在第一氣體清潔裝置中，通過使所述工藝氣體與海水接觸來從所述工藝氣體除去二氧化硫以生成經(jīng)至少部分地清潔的工藝氣體；
在布置成與所述第一氣體清潔裝置直接流體連接的第二氣體清潔裝置中，冷卻已通過所述第一氣體清潔裝置的所述經(jīng)至少部分地清潔的工藝氣體以從其冷凝水，從而生成具有減少的水蒸氣含量的工藝氣體，和
將所述第二氣體清潔裝置中生成的至少一部分冷凝水送至所述第一氣體清潔裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中在所述第二氣體清潔裝置中的冷卻包括使所述經(jīng)至少部分地清潔的工藝氣體與冷卻液接觸以從其冷凝水，由此進(jìn)一步生成用過的冷卻液。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的方法，所述方法還包括：
在所述第二氣體清潔裝置中精制所述經(jīng)部分地清潔的工藝氣體以自其進(jìn)一步除去二氧化硫，從而生成經(jīng)清潔的工藝氣體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的方法，所述方法還包括通過供給堿性物質(zhì)來控制所述冷卻液的pH值使之在4.5-7范圍內(nèi)。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，其中所述工藝氣體在所述第二氣體清潔裝置中的冷卻使所述工藝氣體的溫度降低10-55℃。
6.根據(jù)權(quán)利要求2-5中任一項(xiàng)的方法，所述方法還包括
將用過的冷卻液返回到所述第二氣體清潔裝置；其中在所述返回期間，在將海水進(jìn)料提供給所述第一氣體清潔裝置之前，使所述用過的冷卻液經(jīng)受與所述海水進(jìn)料的換熱。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法，所述方法包括將所述第二氣體清潔裝置中生成的所有過剩的水送至所述第一氣體清潔裝置。
8.一種用于清潔含二氧化硫的工藝氣體的氣體清潔系統(tǒng)，所述氣體清潔系統(tǒng)包含：
第一氣體清潔裝置，布置成接收所述含二氧化硫的工藝氣體、接收海水進(jìn)料并且使所述工藝氣體與所述海水接觸以從所述工藝氣體除去二氧化硫，從而生成經(jīng)至少部分地清潔的工藝氣體；
布置成與所述第一氣體清潔裝置直接流體連接的第二氣體清潔裝置，以接收已通過所述第一氣體清潔裝置的所述經(jīng)至少部分地清潔的工藝氣體并且通過冷卻所述經(jīng)部分地清潔的工藝氣體以從其冷凝水而除去所述經(jīng)部分地清潔的工藝氣體的至少一部分水含量，從而生成具有減少的水蒸氣含量的工藝氣體；
其中所述第一氣體清潔裝置布置成接收所述第二氣體清潔裝置中生成的至少一部分冷凝水。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的氣體清潔系統(tǒng)，其中所述第二氣體清潔裝置布置成接收冷卻液并且使所述經(jīng)部分地清潔的工藝氣體與所述冷卻液接觸，由此進(jìn)一步生成用過的冷卻液。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的氣體清潔系統(tǒng)，其中所述第二氣體清潔裝置提供有填料材料以使所述冷卻液與所述經(jīng)至少部分地清潔的工藝氣體接觸。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10的氣體清潔系統(tǒng)，其中所述第二氣體清潔裝置提供有pH控制裝置，所述pH控制裝置布置成通過堿性物質(zhì)的供給來控制所述冷卻液的pH。
12.根據(jù)權(quán)利要求9-11中任一項(xiàng)的氣體清潔系統(tǒng)，所述氣體清潔系統(tǒng)還包含
換熱器，所述換熱器布置成在海水進(jìn)料被送至所述第一氣體清潔裝置之前接收海水進(jìn)料并且接收所述第二氣體清潔裝置中生成的用過的冷卻液，所述換熱器布置成在所述海水進(jìn)料與所述用過的冷卻液之間交換熱。
13.根據(jù)權(quán)利要求8-12中任一項(xiàng)的氣體清潔系統(tǒng)，其中提供煙囪或?qū)Ч芤詫⒁淹ㄟ^所述第一氣體清潔裝置的所述工藝氣體直接送至所述第二氣體清潔裝置。
14.根據(jù)權(quán)利要求8-13中任一項(xiàng)的氣體清潔系統(tǒng)，其中在所述第一和第二氣體清潔裝置之間提供液體收集容器，所述液體收集容器布置成收集所述第二氣體清潔裝置中生成的冷凝水并且直接送至少一部分所述冷凝水至所述第一氣體清潔裝置。
15.根據(jù)權(quán)利要求8-14中任一項(xiàng)的氣體清潔系統(tǒng)，其中所述第二氣體清潔裝置提供在同一柱或塔內(nèi)所述第一氣體清潔裝置之上。
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